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申请/专利权人：东京毅力科创株式会社
摘要：本发明是支承基片的静电吸盘，其包括：具有基片支承面的电介质部件；形成于上述电介质部件的上表面的槽；和配置在上述电介质部件内的、可被施加高电压的多个电极层区段，在没有形成上述槽的上述电介质部件的上表面的下方配置有上述多个电极层区段中的至少一部分电极层区段，在上述槽的下方且比上述至少一部分电极层区段高的位置没有配置上述电极层区段。
主权项：1.一种支承基片的静电吸盘，其特征在于，包括：具有基片支承面的电介质部件；形成于所述电介质部件的上表面的槽；和设置在所述电介质部件内的、可被施加高电压的多个电极层区段，在没有形成所述槽的所述电介质部件的上表面的下方配置有所述多个电极层区段中的至少一部分电极层区段，在所述槽的下方且比所述至少一部分电极层区段高的位置没有配置所述电极层区段。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 东京毅力科创株式会社 静电吸盘和等离子体处理装置
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