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申请/专利权人：应用材料公司
摘要：本文提供一种用于清洗半导体腔室中的静电吸盘ESC的方法和设备，其允许原位清洗ESC。一种设备可包括：与沉积环电隔离的适配器或盖环；安装到基座并围绕基座的环形接地支架，所述环形接地支架在上周边表面上具有至少一个水平接地圈，所述至少一个水平接地圈被配置成提供与适配器或盖环的电接触，并且在等离子体产生期间向ESC提供RF返回路径；以及支架，所述支架在第一端上具有水平接地圈以与沉积环电接触并且在第二端上具有垂直接地圈以与电接地的升举圈电接触，所述支架安装到环形接地支架但与环形接地支架电隔离。
主权项：1.一种用于清洗半导体腔室中的静电吸盘ESC的设备，所述设备包括：沉积环，所述沉积环围绕所述ESC的周边并且电连接到所述ESC；适配器或盖环，所述适配器或盖环围绕所述沉积环的外周并与所述沉积环的所述外周对接，所述适配器或盖环与所述沉积环电隔离；环形接地支架，所述环形接地支架被配置成安装到基座并围绕所述基座，所述环形接地支架在上周边表面上具有至少一个水平接地圈，所述环形接地支架的所述至少一个水平接地圈被配置成提供与所述适配器或盖环的电接触并且在等离子体产生期间向所述ESC提供RF射频返回路径；以及支架，所述支架在第一端的上表面上具有至少一个水平接地圈并且在远离所述第一端的第二端的侧表面上具有至少一个垂直接地圈，所述支架的所述至少一个水平接地圈被配置成与所述沉积环电接触，所述支架的所述至少一个垂直接地圈被配置成与电接地的升举圈电接触，所述支架被配置成安装到所述环形接地支架，但与所述环形接地支架电隔离。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 应用材料公司 用于静电吸盘的原位清洗的方法与设备
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