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申请/专利权人：科磊股份有限公司
摘要：本文中描述用于通过具有相对小工具占用面积的透射小角度x射线散射测量TSAXS系统表征半导体装置的尺寸及材料性质的方法及系统。本文中描述的所述方法及系统实现适合用于具有减小的光学路径长度的半导体结构的计量的Q空间分辨率。一般来说，所述x射线光束针对相对小目标经聚焦更接近晶片表面且针对相对大目标经聚焦更接近检测器。在一些实施例中，采用具有小点扩散函数PSF的高分辨率检测器以缓解对可实现Q分辨率的检测器PSF限制。在一些实施例中，所述检测器通过确定由光子转换事件刺激的电子云的质心而以子像素准确度定位入射光子。在一些实施例中，除了入射位置之外，所述检测器还分辨一或多个x射线光子能量。
主权项：1.一种计量系统，其包括：x射线照明源，其经配置以产生一定量的x射线辐射；一或多个x射线光学元件，其经配置以将所述一定量的x射线辐射作为聚焦光束引导向测量目标，其中所述聚焦光束入射到所述测量目标上；样品定位系统，其将所述测量目标定位于相对于入射到所述测量目标上的所述聚焦光束的多个定向处；x射线检测器，其具有多个像素，所述多个像素中的每一者具有在最大延伸方向上小于100微米的尺寸，所述X射线检测器经配置以响应于在所述多个定向中的每一者处入射在所述测量目标上的所述聚焦光束而检测从所述测量目标散射的一定量的辐射的多个衍射级中的每一者；及计算系统，其经配置以基于在所述多个定向中的每一者处的经检测的所述多个衍射级中的每一者而确定与所述测量目标相关联的所关注参数的值。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 科磊股份有限公司 透射小角度X射线散射计量系统
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