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申请/专利权人：东曹精细化工株式会社
摘要：本发明提供作为二次电池的改性剂、导电性聚合物的掺杂剂、半导体研磨剂、清洗剂用的添加剂、有机EL元件、光致抗蚀剂等特别是面向电子材料的构件有用的、显著减少了键合溴的高纯度苯乙烯磺酸类及其聚合物。使用减少了核溴化物的高纯度4‑2‑溴乙基苯磺酸、以及由高纯度4‑2‑溴乙基苯磺酸衍生的显著减少了键合溴的高纯度苯乙烯磺酸类及其聚合物。
主权项：1.一种高纯度4-2-溴乙基苯磺酸组合物，其中，相对于4-2-溴乙基苯磺酸，下述通式A所示的核溴化2-溴乙基苯磺酸为0.10％以下，其中，0.10％以下是指通过液相色谱LC求出的峰面积％，是将4-2-溴乙基苯磺酸的峰面积设为100％时的核溴化2-溴乙基苯磺酸的峰面积％，
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百度查询： 东曹精细化工株式会社 高纯度4－（2－溴乙基）苯磺酸和由其衍生的高纯度苯乙烯磺酸类及其聚合物、以及它们的制造方法
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