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【发明公布】一种非傍轴系统中三维偏振晶格的产生方法_苏州大学_202310541657.8 

申请/专利权人:苏州大学

申请日:2023-05-15

公开(公告)日:2023-09-12

公开(公告)号:CN116736526A

主分类号:G02B27/00

分类号:G02B27/00;G02B1/02

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.09.29#实质审查的生效;2023.09.12#公开

摘要:本发明涉及一种非傍轴系统中三维非偏振晶格的产生方法,其包括:确定入射光场是部分相干谢尔模光束的相干矩阵;根据所述相干矩阵计算所述部分相干谢尔模光束在紧聚焦焦场的三维偏振维度和三维偏振度;根据所述三维偏振维度和三维偏振度调节所述部分相干谢尔模光束的相干长度,返回步骤2直至所述三维偏振度表现为0或三维偏振维度表现为3,得到三维非偏振场;基于所述三维非偏振场,调节所述部分相干谢尔模光束的相干结构分布,得到三维非偏振晶格。本发明能在非傍轴系统中产生三维非偏振晶格,且产生晶格速度快,图像精度高,产生的晶格在焦平面两侧保持稳定的非偏振特性。

主权项:1.一种非傍轴系统中三维非偏振晶格的产生方法,其特征在于,包括:步骤1、确定入射光场是部分相干谢尔模光束的相干矩阵;步骤2、根据所述相干矩阵计算所述部分相干谢尔模光束在紧聚焦焦场的三维偏振维度和三维偏振度;步骤3、根据所述三维偏振维度和三维偏振度调节所述部分相干谢尔模光束的相干长度,返回步骤2直至所述三维偏振度表现为0或三维偏振维度表现为3,得到三维非偏振场;步骤4、基于所述三维非偏振场,调节所述部分相干谢尔模光束的相干结构分布,得到三维非偏振晶格。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 苏州大学 一种非傍轴系统中三维偏振晶格的产生方法

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