申请/专利权人:ASML荷兰有限公司
申请日:2022-09-23
公开(公告)日:2024-05-28
公开(公告)号:CN118103776A
主分类号:G03F9/00
分类号:G03F9/00;G03F7/20
优先权:["20211018 EP 21203273.4"]
专利状态码:在审-公开
法律状态:2024.05.28#公开
摘要:公开了一种用于确定用于测量来自衬底上的目标结构的感兴趣参数的测量设置的方法。该方法包括:获得第一位置差异数据,该第一位置差异数据描述第一代表性目标结构位置的位置和与产品结构有关的一个或更多个第一特征的位置之间的差异;获得光学量测数据,该光学量测数据与所述目标结构的光学测量结果有关,并且还与多个不同的测量设置有关;以及根据所述第一位置差异数据和所述光学量测数据确定所述测量设置,使得使用所确定的测量设置从所述目标结构的光学测量结果获得的测量特征位置值与所述一个或更多个第一特征的位置更好地相关。
主权项:1.一种用于确定用于测量来自衬底上的目标结构的感兴趣参数的测量设置的方法;所述方法包括:获得第一位置差异数据,所述第一位置差异数据描述第一代表性目标结构位置的位置和与产品结构有关的一个或更多个第一特征的位置之间的差异;获得光学量测数据,所述光学量测数据与所述目标结构的光学测量结果有关,并且还与多个不同的测量设置有关;以及根据所述第一位置差异数据和所述光学量测数据确定所述测量设置,使得使用所确定的测量设置从所述目标结构的光学测量结果获得的测量特征位置值被预期为代表所述一个或更多个第一特征的位置。
全文数据:
权利要求:
百度查询: ASML荷兰有限公司 确定量测方法中的测量选配方案
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