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【发明授权】在位精密检测微光学元件结构面型的方法及装置_中国科学院重庆绿色智能技术研究院_202311534679.8 

申请/专利权人:中国科学院重庆绿色智能技术研究院

申请日:2023-11-17

公开(公告)日:2024-06-07

公开(公告)号:CN117589083B

主分类号:G01B11/24

分类号:G01B11/24

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.07#授权;2024.03.12#实质审查的生效;2024.02.23#公开

摘要:本发明提供一种在位精密检测微光学元件结构面型的方法,包括:将白光干涉仪放置于机床的第一旋转轴上,将工件放置于机床的第二旋转轴上;调整白光干涉仪镜头光轴与机床第二旋转轴中心重合;对工件进行加工,保持工件在第二旋转轴上的位置不发生变化;白光干涉仪响应于机床发送的触发信号,按照规划的移动路径对加工后工件的结构面型进行多次拍摄;结构面型包括平缓结构和陡峭结构。还提供了一种在位精密检测微光学元件结构面型装置,包括:机床,白光干涉仪,拼接路径规划及控制系统和图形拼接合成软件。本发明可以实现对微光学元件进行在位精密检测,更好的辅助微光学元件的高精度加工。

主权项:1.一种在位精密检测微光学元件结构面型方法,其特征在于,包括:将白光干涉仪放置于机床的第一旋转轴上,将工件放置于机床的第二旋转轴上;调整白光干涉仪镜头光轴与机床第二旋转轴中心重合;对工件进行加工,保持工件在第二旋转轴上的位置不发生变化;白光干涉仪响应于机床发送的触发信号,按照规划的移动路径对加工后工件的结构面型进行多次拍摄;所述结构面型包括陡峭结构;在检测陡峭结构时,白光干涉仪的移动路径和拍摄方式如下:白光干涉仪分别沿机床的两个直线位移轴和第一旋转轴进行移动,移动路径的初始坐标点为x0,y0,z0,B0,C0,在初始坐标点拍摄完成后移动到下一坐标点x1,y0,z1,B1,C0拍摄;经多次移动坐标点后白光干涉仪到此横向最后一点结构位置xn,y0,zn,Bn,C0拍摄;将第二旋转轴旋转一角度,将白光干涉仪先移动到初始位置x0,y0,z0,B0,C1拍摄,然后移动到下一点坐标x1’,y0,z1’,B1’,C1拍摄,按照此方式依次运动到横向最后一点位置xn’,y0,zn’,Bn’,C1拍摄;依次转动第二旋转轴的角度,直至全部结构拍摄完成;对于陡峭结构,规划的白光干涉仪移动路径,其坐标点满足以下关系:坐标点在X轴,B轴满足以下方程: Bn=f′x′n,x′n=x0+n×tx在上式中,S为点A0与点B0的距离,点A0为白光干涉仪镜头虚拟焦点,点B0为B轴旋转轴本身旋转中心,θ为A0与B0连线与Z轴移动方向的夹角,tx为X方向的拍摄移动步长,取值范围根据白光干涉仪镜头拍摄视场范围确定;n表示第n个坐标点;x0为初始坐标点;坐标点在Z轴满足以下方程:zn=z0-2×fx′n,0+S×cosθ-S×cosBn+θ 在上式中,z0为在Z轴上的初始坐标点,R为曲面曲率半径,x为坐标点,k为圆锥系数常数项,ai为非球面高阶系数。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院重庆绿色智能技术研究院 在位精密检测微光学元件结构面型的方法及装置

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