申请/专利权人：魅杰光电科技(上海)有限公司

申请日：2022-02-25

公开（公告）日：2024-06-14

公开（公告）号：CN114859666B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;G03F9/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.06.14#授权;2022.08.23#实质审查的生效;2022.08.05#公开

摘要：本发明提供了一种全场式曝光设备以及全场式曝光方法，属于半导体光刻制程技术领域，全场式曝光设备中对准运动控制台的平移模组和纵向位移模组根据图像识别运动台的拍摄结果对晶圆承片台实施进行水平移动和垂直移动；晶圆承片台对位装置用于实现晶圆和掩膜版的平行对位；晶圆承片台固定在晶圆承片台对位装置上；掩模版固定装置用于真空固定掩膜板；图像识别运动台包括两组用于对晶圆进行定位的图像识别单元、用于水平移动图像识别单元的水平移动单元和用于垂直移动图像识别单元的垂直移动单元；曝光装置设置在图像识别运动台的上方，用于对晶圆进行曝光。本申请的处理方案具有全自动高产能、高分辨率、高对准精度、高可靠性等优势。

主权项：1.一种全场式曝光设备，用于对晶圆进行全场式曝光，其特征在于，包括自下而上依次设置的对准运动控制台、晶圆承片台对位装置、晶圆承片台、掩模版固定装置、图像识别运动台、曝光装置以及控制上述装置的上位机，其中，所述对准运动控制台具有控制所述晶圆承片台对位装置水平移动的平移模组和控制所述晶圆承片台对位装置垂直移动的纵向位移模组，所述平移模组和所述纵向位移模组根据所述图像识别运动台的拍摄结果对所述晶圆承片台实施进行水平移动和垂直移动；所述晶圆承片台对位装置安装在所述对准运动控制台上端的安装平面上，用于实现所述晶圆承片台承载的晶圆和掩模版的平行对位；所述晶圆承片台固定在所述晶圆承片台对位装置上；所述掩模版固定装置设置在所述晶圆承片台的上方，用于真空固定掩模版；所述图像识别运动台包括两个用于对所述晶圆进行定位的图像识别单元、用于水平移动所述图像识别单元的水平移动单元和用于垂直移动所述图像识别单元的垂直移动单元；所述曝光装置设置在所述图像识别运动台的上方，用于对所述晶圆进行曝光，所述晶圆承片台对位装置包括：柔性机构，下端面与所述纵向位移模组连接，上端面与晶圆承片台连接，在所述纵向位移模组的驱动下移动所述晶圆承片台；晶圆承片台定位组件，设置在所述晶圆承片台与所述掩模版之间，用于定位晶圆承片台的位置，所述晶圆承片台与所述晶圆承片台定位组件的下表面接触且所述晶圆承片台定位组件的上表面与所述掩模版接触；柔性锁紧单元，全过程实时接收所述纵向位移模组反馈的当前力值，并当所述当前力值达到预设力值时，对所述柔性机构的当前位置进行锁紧，确定当前位置所述晶圆承片台上的晶圆和掩模版相对平行。

全文数据：

权利要求：

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