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申请/专利权人：株式会社德山
申请日：2023-12-15
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118218324A
主分类号：B08B6/00
分类号：B08B6/00;B08B5/02;B08B13/00;H01L21/67
优先权：["20221219 JP 2022-202369"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：本发明在应用了开放型洁净室结构的多晶硅块用品质检查室结构中，进一步提高该品质检查室部洁净室部的清洁度。多晶硅块用品质检查室结构是具备品质检查室部和与该品质检查室部连接设置的进出室用的空气吹淋室部的开放型多晶硅块用品质检查室结构，在空气吹淋室部中，被喷射的空气是离子空气，所述品质检查室部的室内压被调整为在空气吹淋运转停止时比空气吹淋室部的室内压至少高0.5Pa，在该品质检查室部的天花板上的至少与空气吹淋室部的分隔处附近设置有电离器，由此，该品质检查室部的所述分隔处附近下方部的环境气具有在空气吹淋运转停止时电位衰减时间对于正极性以及负极性分别为1分钟以内的消除电荷的能力。
主权项：1.一种多晶硅块用品质检查室结构，其特征在于，具备品质检查室部和进出室用的空气吹淋室部，所述品质检查室部由清洁度为等级1000以下的洁净室构成，所述空气吹淋室部与所述品质检查室部连接设置，所述空气吹淋室部从设置于一方的壁部面的多个空气喷射口分别喷射离子空气，所述多晶硅块用品质检查室结构是在所述空气吹淋室部与所述品质检查室部的分隔处、以及所述空气吹淋室部与外部空间的分隔处均未设置封闭门的开放型，所述品质检查室部的室内压被调整为在空气吹淋运转停止时至少比空气吹淋室部的室内压高0.5Pa，在该品质检查室部的天花板上的至少与空气吹淋室部的分隔处附近设置有电离器，通过来自该电离器的离子空气的扩散，该品质检查室部的与所述空气吹淋室部的分隔处附近下方部的环境气具有如下性状：在空气吹淋运转停止时，对带电板施加1000V作为试验电压的绝对值之后，该带电板的电位的绝对值衰减到100V为止的电位衰减时间对于正极性以及负极性分别为1分钟以内。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社德山 多晶硅块用品质检查室结构
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