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【发明授权】薄膜晶体管器件及其制备方法、显示面板_深圳市华星光电半导体显示技术有限公司_202410405595.2 

申请/专利权人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司

申请日:2024-04-07

公开(公告)日:2024-06-21

公开(公告)号:CN117995909B

主分类号:H01L29/786

分类号:H01L29/786;H01L29/417;H01L29/43;H01L21/28;H01L21/336;H01L21/34;H01L21/44;G09F9/30

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.21#授权;2024.05.24#实质审查的生效;2024.05.07#公开

摘要:本申请实施例公开了一种薄膜晶体管器件及其制备方法、显示面板,在薄膜晶体管器件中,无机绝缘层覆盖过孔的孔壁;有源层设置在第一电极、无机绝缘层和第二电极上;栅极绝缘层覆盖有源层;栅极设置在栅极绝缘层远离过孔的孔壁的一侧;其中,第一电极、第二电极和无机绝缘层均具有同一种导电性元素。本申请实施例采用无机绝缘层覆盖过孔的孔壁,以弥补过孔孔壁因刻蚀造成的损伤,为有源层的形成提高良好背沟道膜面,从而提高薄膜晶体管器件的性能;第一电极、第二电极和无机绝缘层均具有同一种导电性元素,可使得无机绝缘层、第一电极的至少部分、第二电极的至少部分采用同种材料经过高温氧化或氮化一次形成,节省光罩制程。

主权项:1.一种薄膜晶体管器件的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:在衬底上依次形成第一基底电极、层间介质层和第二基底电极;图案化所述层间介质层以形成过孔,所述过孔暴露所述第一基底电极的至少部分;在所述层间介质层上形成导电材料层,所述导电材料层包括依次相连的第一部分、第二部分和第三部分,所述第一部分覆盖所述第二基底电极,所述第二部分覆盖所述过孔的侧壁,所述第三部分覆盖裸露的所述第一基底电极;所述导电材料层厚度介于5纳米至50纳米之间;在不低于300摄氏度下氧化或氮化处理所述导电材料层,使得所述第三部分与所述第一基底电极形成第一电极、所述第二部分转变为无机绝缘层、所述第一部分与所述第二基底电极形成第二电极;在所述无机绝缘层上依次形成有源层、栅极绝缘层和栅极,所述有源层连接于所述第一电极和所述第二电极,所述栅极设置在所述栅极绝缘层远离所述过孔的孔壁的一侧。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 薄膜晶体管器件及其制备方法、显示面板

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