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申请/专利权人：上海华力微电子有限公司
申请日：2024-03-26
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118244586A
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本发明提供一种点对点图形结构的OPC修正方法，点对点图形结构的OPC修正方法包括：筛选出待修正的点对点图形结构；基于版图在晶圆上的显影情况，选用不同的修正方式对点对点图形结构的边进行处理，将点对点图形结构转化为常规的OPC软件可识别的凸角或凹角，从而可以按特定需求完成对点对点图形结构的分段和后续的OPC修正，形成修正后的点对点图形结构。该方法能够得到满足工艺要求的OPC修正结果，避免出现违反MRC规则的问题。
主权项：1.一种点对点图形结构的OPC修正方法，其特征在于，包括：筛选出待修正的点对点图形结构；基于版图在晶圆上的显影情况，选用不同的修正方式对所述点对点图形结构进行修正，形成修正后的所述点对点图形结构。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 上海华力微电子有限公司 点对点图形结构的OPC修正方法
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