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可双向耐压的DMOS器件 

申请/专利权人:钰泰半导体股份有限公司

申请日:2024-05-31

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118263330A

主分类号:H01L29/78

分类号:H01L29/78;H01L23/48;H01L23/528

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:本发明涉及一种可双向耐压的DMOS器件,包括源极、漏极、栅极和衬底电极,当所述衬底电极与所述源极相连时,所述漏极对所述源极耐压;当所述衬底电极与所述漏极相连时,所述源极对所述漏极耐压;当所述衬底电极接地时,所述源极和所述漏极同时相互耐压。本发明的可双向耐压的DMOS器件,通过一个DMOS器件替代两个串联的MOS器件来作为高功率管使用,对于特定耐压值,Rsp可以做到接近两MOS器件的Rsp之和,实现同样的Ron目标,DMOS器件面积可以缩减将近50%,从而大幅降低成本。

主权项:1.一种可双向耐压的DMOS器件,其特征在于,包括源极、漏极、栅极和衬底电极,当所述衬底电极与所述源极相连时,所述漏极对所述源极耐压;当所述衬底电极与所述漏极相连时,所述源极对所述漏极耐压;当所述衬底电极接地时,所述源极和所述漏极同时相互耐压。

全文数据:

权利要求:

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