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一种化合物及其应用 

申请/专利权人:北京鼎材科技有限公司

申请日:2019-12-18

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN113004189B

主分类号:C07D209/80

分类号:C07D209/80;C07D209/86;C07D409/04;C07D209/88;C07D487/04;C07D495/04;C07D491/048;C07D209/94;H10K50/11;H10K85/60

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.28#授权;2022.09.20#实质审查的生效;2021.06.22#公开

摘要:本发明涉及一种化合物及其应用,所述化合物具有式I所示的结构。本发明提供的化合物是以7元共轭芳环为母核结构,其中取代基团中必须含有一个咔唑及其衍生基团Ar,咔唑保证了相应的HOMO能级,提供了良好的空穴能力,7元芳环的加入,提供了更大的平面共轭基团,增加了整个分子的载流子迁移率,再者这种刚性结构的引入,使得该类材料具有高的玻璃化温度,热稳定性极佳,应用于OLED器件时,能够有效的提高器件效率,降低驱动电压,特别是一种良好的空穴型主体材料。

主权项:1.一种化合物,其特征在于,所述化合物具有式I所示的结构; 式I中,所述m为0~2的整数,且m=2时,R1相同或不同;式I中,所述n为0~2的整数,且n=2时,R2相同或不同;式I中,所述o为0~2的整数,且o=2时,R3相同或不同;式I中,所述p为0~2的整数,且p=2时,R4相同或不同;式I中,所述s和k各自独立地为0或1,且s和k不同时为0;式I中,所述R1、R2、R3和R4各自独立地选自C1~C12链状烷基、C3~C12环烷基、C1~C12链状烷氧基、卤素、氰基、取代或未取代的C6~C20芳基、取代或未取代的C3~C20杂芳基中的任意一种,R1、R2、R3和R4中任意两个相邻的基团不连接成环;式I中,所述Ar具有式II所示的结构; 式II中,虚线代表基团的连接键;式II中,所述L选自单键、取代或未取代的C6~C20亚芳基、取代或未取代的C3~C20亚杂芳基中的任意一种;式II中,所述Z1~Z8各自独立地选自CR5,所述R5各自独立地选自氢、氘、卤素、取代或未取代的C1~C12链状烷基、取代或未取代的C3~C12环烷基、取代或未取代的C1~C12链状烷氧基、氰基、取代或未取代的C6~C30芳基、取代或未取代的C3~C30杂芳基中的任意一种,任意两个相邻的R5不连接成环或者相互连接形成取代或未取代的C6~C30芳环、取代或未取代的C3~C30杂芳环中的任意一种;当上述基团存在取代基时,所述取代基选自卤素、C1~C12链状烷基、C3~C12环烷基、C1~C6烷氧基、C1~C6硫代烷氧基、C6~C20芳基氨基、C3~C20杂芳基氨基、C6~C20单环芳基、C10~C20稠环芳基、C3~C20单环杂芳基、C6~C20稠环杂芳基中的任意一种或者至少两种的组合。

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权利要求:

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