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申请/专利权人：中微半导体设备(上海)股份有限公司
申请日：2019-12-04
公开（公告）日：2024-07-09
公开（公告）号：CN112908919B
主分类号：H01L21/683
分类号：H01L21/683;H01J37/32
优先权：
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.07.09#授权;2021.06.22#实质审查的生效;2021.06.04#公开
摘要：本发明涉及一种静电吸盘electrostaticchuck,ESC装置，其包括静电吸盘及基座。静电吸盘的上表面用以吸附晶圆。基座的上表面与静电吸盘的下表面连结，静电吸盘中具有贯通静电吸盘的冷却气体孔，基座具有与冷却气体孔相对应的冷却通道，在冷却通道的靠近冷却气体孔的一端设置多孔塞，多孔塞的靠近冷却气体孔的一侧设置第一凹部，聚合物材料填充第一凹部及粘合多孔塞和冷却通道的内壁。本发明通过在冷却气体孔对应基座的侧壁所形成凹部填充聚合物材料，以实现极大地提高短期制造可靠性和长期化学侵蚀的可靠性，从而防止冷却气体孔和或容纳升降销的通孔过早产生电压击穿现象。
主权项：1.一种静电吸盘装置，其特征在于，包括：静电吸盘，具有上表面和下表面，所述静电吸盘的上表面用以吸附晶圆；以及基座，所述基座的上表面与所述静电吸盘的下表面连结，所述静电吸盘中具有贯通所述静电吸盘的冷却气体孔，所述基座具有与所述冷却气体孔相对应的冷却通道，在冷却通道的靠近冷却气体孔的一端设置多孔塞，所述多孔塞的靠近冷却气体孔的一侧具有第一凹部，使得多孔塞与冷却通道的内壁形成间隙，所述第一凹部填充有聚合物材料，所述聚合物材料分别与多孔塞和冷却通道的内壁粘合。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中微半导体设备(上海)股份有限公司 静电吸盘装置及包括该静电吸盘装置的等离子体处理装置
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