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射频半导体器件及用于制作射频半导体器件的方法 

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申请/专利权人:英飞凌科技股份有限公司

摘要:本公开涉及射频半导体器件及用于制作射频半导体器件的方法。提供了一种用于处理操作频率范围内的RF信号的射频RF半导体器件,包括:半导体芯片,包括第一表面、与第一表面相对的第二表面以及侧壁,半导体芯片包括有源芯片区域;再分布层,包括第一侧,再分布层的第一侧面向半导体芯片的第一表面;有源芯片区域外部的RF吸收层,其中RF吸收层包括掺杂半导体材料。

主权项:1.一种射频RF半导体器件100,用于处理操作频率范围内的RF信号,所述RF半导体器件100包括:半导体芯片102,包括第一表面104、与所述第一表面104相对的第二表面106以及侧壁108,所述半导体芯片102包括有源芯片区域;再分布层110,包括第一侧114,所述再分布层110的所述第一侧114面向所述半导体芯片102的所述第一表面104;RF吸收层122,在所述有源芯片区域外部,其中所述RF吸收层122包括掺杂半导体材料,使得所述RF吸收层122的耗散因子在所述操作频率范围内等于或大于0.1。

全文数据:

权利要求:

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