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一种在TSV中自形成扩散阻挡层的方法及TSV和转接板 

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申请/专利权人:清华大学;北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司

摘要:本发明提供了一种在TSV中自形成扩散阻挡层的方法及TSV和转接板,其中,所述方法包括先于绝缘层上沉积铜合金薄膜,再进行退火处理,生成自形成扩散阻挡层;或者先于绝缘层上沉积铜合金薄膜,然后于TSV盲孔内填充Cu,再进行退火处理,生成自形成扩散阻挡层;其中,铜合金包括铜和掺杂金属,所述掺杂金属包括Mn、Ti、Ta、Mg、Ge、Ni、Cr、Zr、Ru、Co及Al中的一种或者两种。本发明的方法减少了工艺步骤,制作工序更为简单,可制备用于当前主流尺寸或者小尺寸亚微米、高深宽比的TSV中的自形成扩散阻挡层;制得的自形成扩散阻挡层较薄且连续,具备更好的粘附性,更好的电学特性以及更好的可靠性。

主权项:1.一种在TSV中自形成扩散阻挡层的方法,包括在Si晶圆中形成TSV盲孔,并在Si晶圆上表面和TSV盲孔的内壁上制作绝缘层,其特征在于,所述方法还包括:先于绝缘层上沉积铜合金薄膜,再进行退火处理,生成自形成扩散阻挡层;或者,先于绝缘层上沉积铜合金薄膜,然后于TSV盲孔内填充Cu,再进行退火处理,生成自形成扩散阻挡层;其中,铜合金包括铜和掺杂金属,所述掺杂金属包括Mn、Ti、Ta、Mg、Ge、Ni、Cr、Zr、Ru、Co及Al中的一种或者两种。

全文数据:

权利要求:

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