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申请/专利权人：中国科学院化学研究所
摘要：本发明涉及一种用于同步辐射掠入射X射线衍射观察溶液刮涂法薄膜成膜过程的装置，包括刮涂装置、衍射仪接口、用于接受入射X光经基片衍射后产生衍射图案的二维信号探测器，衍射仪接口通过紧固件与同步辐射线站的衍射仪相连，使刮涂装置与衍射仪联动。本发明的用于同步辐射掠入射X射线衍射观察溶液刮涂法薄膜成膜过程的装置实现了对刮涂钙钛矿薄膜在涂膜过程中晶相的变化实现了原位连续的监测，为使用溶液法刮涂制备高质量的钙钛矿薄膜提供了理论依据。
主权项：1.一种用于同步辐射掠入射X射线衍射观察溶液刮涂法薄膜成膜过程的装置，其特征在于，所述用于同步辐射掠入射X射线衍射观察溶液刮涂法薄膜成膜过程的装置包括：刮涂装置、衍射仪接口、用于接受入射X光经基片衍射后产生衍射图案的二维信号探测器，其中，衍射仪接口通过紧固件与同步辐射线站的衍射仪相连，使刮涂装置与衍射仪联动；所述刮涂装置包括：底座、电机、涂膜面板、推杆和推杆吸附孔；所述底座内部包括加热器；所述电机用于驱动推杆以不同速度前进，从而在不同速度下对半导体薄膜进行刮涂成膜；所述电机位于底座的一侧；所述涂膜面板用于将涂膜所用基片置于涂膜面板上；所述涂膜面板设置于底座上方，所述加热器用于加热涂膜面板；所述推杆推动刮涂成膜过程中所需的刮刀前进，将溶液均匀涂布成湿膜；所述推杆与电机连接并位于底座的另一侧；所述推杆吸附孔与真空泵连接，将刮涂成膜过程中所需的刮刀吸附在推杆上；所述推杆吸附孔位于推杆上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国科学院化学研究所 一种用于同步辐射掠入射X射线衍射观察溶液刮涂法薄膜成膜过程的装置
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