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申请/专利权人：北京华新创科信息技术有限公司
摘要：本发明涉及辐射测量技术领域，具体涉及一种直射辐射和散射辐射测量方法，利用成像光谱仪对均匀地物非阴影区进行测量，得出第一电压；利用成像光谱仪对均匀地物阴影区进行测量，得出第二电压；根据第一电压和第二电压，计算得出阴影系数；获取水平总辐照度，将水平总辐照度和阴影系数的乘积作为散射辐照度；获取太阳高度角，根据太阳高度角、水平总辐照度和散射辐照度，计算得出直射辐射量。可以理解的是，本发明示出的技术方案，不会受限于安装环境，可以使得辐射分量的测量可随遥感地物勘察同步进行，实现快速大范围的光谱分量的测量。
主权项：1.一种直射辐射和散射辐射测量方法，其特征在于，包括：利用成像光谱仪对均匀地物非阴影区进行测量，得出第一电压；利用成像光谱仪对均匀地物阴影区进行测量，得出第二电压；根据所述第一电压和所述第二电压，计算得出阴影系数；获取水平总辐照度，将所述水平总辐照度和所述阴影系数的乘积作为散射辐照度；获取太阳高度角，根据所述太阳高度角、所述水平总辐照度和所述散射辐照度，计算得出直射辐射量。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 北京华新创科信息技术有限公司 直射辐射和散射辐射测量方法、装置、设备及存储介质
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