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【发明公布】一种钝化膜沉积的HJT电池及其制备方法_电投传古太阳能科技(无锡)有限公司;无锡广传绿能科技有限公司_202410260662.6 

申请/专利权人:电投传古太阳能科技(无锡)有限公司;无锡广传绿能科技有限公司

申请日:2024-03-07

公开(公告)日:2024-06-04

公开(公告)号:CN118136699A

主分类号:H01L31/0216

分类号:H01L31/0216;H01L31/18;C23C16/40;C23C16/455

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.06.21#实质审查的生效;2024.06.04#公开

摘要:本发明公开了一种钝化膜沉积的HJT电池及其制备方法,属于新能源光伏晶硅电池技术领域。S1、清洗制绒:选取硅片,清洗后制绒,使硅片的正背面形成绒面层;S2、非晶硅镀膜:在硅片正面依次镀本征非晶硅薄膜和n型掺杂微晶硅薄膜,背面依次镀本征非晶硅薄膜和p型掺杂微晶硅薄膜;S3、选择钝化层沉积:采用ALD低温沉积技术在硅片正面沉积二氧化硅钝化薄膜;S4、TCO沉积:在硅片的正背面均沉积TCO膜;S5、金属化:利用丝网印刷技术或电镀技术进行金属化,制备金属栅线电极,得到HJT电池。本发明采用低温工艺的ALD技术在正面掺杂层微晶上生长一层氧化硅缓冲钝化膜,解决了TCO沉积过程对非微晶层的影响,提高了电池的转换效率。

主权项:1.一种钝化膜沉积的HJT电池的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、清洗制绒:选取硅片,清洗后制绒,使硅片的正背面形成绒面层;S2、非晶硅镀膜:在硅片正面依次镀本征非晶硅薄膜和n型掺杂微晶硅薄膜,背面依次镀本征非晶硅薄膜和p型掺杂微晶硅薄膜;S3、选择钝化层沉积:采用ALD低温沉积技术在硅片正面沉积二氧化硅钝化薄膜;S4、TCO沉积:在硅片的正背面均沉积TCO膜;S5、金属化:利用丝网印刷技术或电镀技术进行金属化,制备金属栅线电极,得到HJT电池。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 电投传古太阳能科技(无锡)有限公司;无锡广传绿能科技有限公司 一种钝化膜沉积的HJT电池及其制备方法

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