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申请/专利权人：ASMIP私人控股有限公司
申请日：2021-11-25
公开（公告）日：2024-06-07
公开（公告）号：CN114576154B
主分类号：F04B53/00
分类号：F04B53/00;F04B53/16;H01L21/67
优先权：["20201130 US 63/119,216"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.07#授权;2023.12.05#实质审查的生效;2022.06.03#公开
摘要：本发明涉及一种注射器，其配置用于布置在衬底处理设备的反应室内，以将气体注入反应室中。注射器可以沿着第一轴线伸长，并配置有沿着第一轴线延伸的内部气体传导通道，并设置有至少一个气体入口和至少一个气体出口。注射器可以具有沿着垂直于第一轴线的第二轴线延伸的宽度，该宽度基本大于注射器沿着垂直于第一和第二轴线的第三轴线延伸的深度。注射器的壁可以具有变化的厚度。
主权项：1.一种注射器，其包括：壁；沿着第一轴线延伸的内部气体传导通道；至少一个气体入口；和至少一个气体出口，其中该注射器沿着第一轴线大致伸长，其中，所述注射器具有沿着垂直于第一轴线的第二轴线延伸的宽度，该宽度基本大于注射器沿着垂直于第一和第二轴线的第三轴线延伸的深度，其中所述注射器的壁具有变化的厚度，其中所述内部气体传导通道具有基本上椭圆形的横截面，由此所述内部气体传导通道沿着所述第二轴线延伸基本大于内部气体传导通道沿着所述第三轴线延伸，其中所述基本椭圆形的横截面在第二方向的中部被具有增加的厚度的壁部分地夹缩，并且其中所述基本椭圆形的横截面在第二方向的中部被设置在所述壁上并延伸到所述内部气体传导通道中的球头部分地夹缩。
全文数据：
权利要求：
百度查询： ASMIP私人控股有限公司 配置用于布置在衬底处理设备的反应室内的注射器
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