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【发明授权】传感器和制造传感器的方法_TDK电子股份有限公司_202180005110.5 

申请/专利权人:TDK电子股份有限公司

申请日:2021-01-21

公开(公告)日:2024-06-18

公开(公告)号:CN114286929B

主分类号:G01L7/08

分类号:G01L7/08;G01L9/06

优先权:["20200227 DE 102020105210.3"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.18#授权;2022.04.22#实质审查的生效;2022.04.05#公开

摘要:在至少一个实施俯视中,传感器包括具有用于在通过介质施加压力时变形的膜(10)的变形体(1)以及施加到所述膜(10)上并且固定在所述膜(10)上的膨胀元件(2)。所述膨胀元件(2)基于SOI技术并且具有多个压阻电阻器(20)。

主权项:1.一种传感器,包括-变形体1,具有用于在通过介质施加压力时变形的膜10,-施加到所述膜10上并且固定在所述膜10上的膨胀元件2,其中-所述膨胀元件2基于SOI技术并且具有多个压阻电阻器20,其中所述压阻电阻器20分别包括至少三侧空间暴露的Si纳米线,其中空间暴露意味着所述Si纳米线在其部分长度上没有得到支撑而是底部掏空的。

全文数据:

权利要求:

百度查询: TDK电子股份有限公司 传感器和制造传感器的方法

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