买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！

申请/专利权人：中国科学院微电子研究所

摘要：本申请公开一种用于制造显示面板的新型掩模版及其参数确定方法，该新型掩模版中，透光区域中包括衍射过渡区域，衍射过渡区域与遮光区域连接，衍射过渡区域中包括一组或多组间隔排列的过渡图形；过渡图形与透光区域和遮光区域相接的临界线平行；衍射过渡区域中被过渡图形覆盖的区域不透光。本申请在掩模版边缘的衍射过渡区域中设置不透光的过渡图形，过渡图形能增加掩模版的衍射区域宽度，调节多曝光区域的曝光量，使掩模版边缘的曝光剂量均匀分布，达到良好的曝光效果。通过增加过渡图形和边缘距离调整，达到较好的曝光剂量分布，同时还可以达到削弱设备步进精度3σ值对拼接影响的效果，提升了面板的显示效果。

主权项：1.一种用于拼接曝光的掩模版的参数确定方法，其特征在于，所述方法包括：确定第一掩模版对应的边缘衍射区域宽度，包括：通过曝光系统对拼接的第一掩模版进行单次曝光；获取所述单次曝光对应的曝光量分布曲线；根据所述曝光量分布曲线，确定所述第一掩模版中包括的多曝光区域；将所述多曝光区域的宽度确定为所述第一掩模版对应的边缘衍射区域宽度；通过仿真方式分别在所述第一掩模版中添加按照不同候选宽度比例排布的过渡图形序列，得到多个第二掩模版；根据所述边缘衍射区域宽度和多个所述第二掩模版，获得使曝光量分布最均匀的宽度比例和掩模移动距离，包括：根据所述边缘衍射区域宽度，确定多个候选移动距离；将每个所述第二掩模版分别移动每个所述候选移动距离并进行曝光；获取每次曝光对应的曝光量分布曲线对应的曝光质量系数；将曝光质量系数最高的曝光量分布曲线对应的候选移动距离确定为使曝光量分布最均匀的掩模移动距离；将曝光质量系数最高的曝光量分布曲线对应的第二掩模版中添加的过渡图形序列对应的候选宽度比例确定为使曝光量分布最均匀的宽度比例；所述获得使曝光量分布满足预设平整分布条件的宽度比例之后，还包括：在所述第一掩模版中，按照从遮光区域与透光区域的临界线开始朝所述透光区域延伸的方向，添加按照所述宽度比例排布的过渡图形序列，得到掩模版；所述掩模版，包括透光区域和遮光区域；所述透光区域中包括衍射过渡区域，所述衍射过渡区域与所述遮光区域连接，所述衍射过渡区域中包括一组或多组间隔排列的过渡图形；所述过渡图形与所述透光区域和所述遮光区域相接的临界线平行；所述衍射过渡区域中被所述过渡图形覆盖的区域不透光；所述衍射过渡区域中透光区域和所述过渡图形按照所述宽度比例间隔分布，间隔排列的所述过渡图形用于增加所述掩模版的衍射区域范围。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院微电子研究所 用于制造显示面板的掩模版及其参数确定方法