申请/专利权人：中国人民解放军军事科学院国防科技创新研究院

申请日：2021-12-03

公开（公告）日：2024-06-18

公开（公告）号：CN114239163B

主分类号：G06F30/17

分类号：G06F30/17;G06F111/10;G06F113/26

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.06.18#授权;2022.04.12#实质审查的生效;2022.03.25#公开

摘要：本发明提出了一种基于随机拓扑的超构材料微结构生成与仿真评估方法，使用计算机程序生成电磁微结构图案，并将所述图案转换为可调用的计算机文件，通过导入该计算机文件，生成超构材料并开始仿真测试，所述超构材料微结构由衬底介质材料和阻抗膜材料交替排列形成；包括：确定超构材料微结构电磁吸收的频率区范围；确定阻抗膜材料材质，确定阻抗膜材料的图案周期；确定耐环境的衬底介质材料材质；确定超构材料微结构的生成方式，随机微结构的占空比，固定衬底介质的厚度，计算不同占空比微结构下的电磁吸收特性；确定固定衬底介质的厚度下的优势微结构占空比区间，舍弃其他微占空比结构结构；确定超构材料的最优构型。

主权项：1.一种基于随机拓扑的超构材料微结构生成与仿真评估方法，其特征在于，使用计算机程序生成电磁微结构图案，并将所述图案转换为可调用的计算机文件，通过导入该计算机文件，生成超构材料并开始仿真测试，所述超构材料微结构由衬底介质材料和阻抗膜材料交替排列形成；所述方法包括如下步骤：步骤1，确定超构材料微结构电磁吸收的频率区范围；确定阻抗膜材料材质，确定阻抗膜材料的图案周期；确定耐环境的衬底介质材料材质；其中，步骤1中所述阻抗膜材料的图案按照设定的图案周期扩展生成，所述图案生成包括子步骤：步骤1.1,初始化随机生成种子点；步骤1.2，标记种子点领域像素；步骤1.3，从全部图案区域中随机选择若干点作为新的结构点；步骤1.4，获得满足占空比要求的区域结构；其中，所述图案的生成拓扑模式包括旋转方式和轴对称方式；所述轴对称方式包括：单轴对称方式和双轴对称方式；其中，所述图案周期的一个元图案的拓扑满足以下条件：⑴拓扑应随机生成；⑵一个完整图形的像素数满足预定的金属占空比和各元图案内的金属块相互连通；步骤2，确定超构材料微结构的生成方式，随机微结构的占空比，固定衬底介质的厚度，计算不同占空比微结构下的电磁吸收特性；步骤3，确定固定衬底介质的厚度下的优势微结构占空比区间，舍弃其他微占空比结构结构；步骤4，从根据步骤3确定的优势微结构占空比区间的上下边界中各选择一个微结构构型，计算采用同一微结构构型的图案，不同衬底介质的厚度下的电磁吸收特性；步骤5，根据步骤3和步骤4的计算结果，确定超构材料的最优构型；步骤6，根据步骤5获得的最优构型制作所述超构材料；其中，所述微结构的评价公式为： 其中，sf是反射系数，min·表示最小值，avg表示平均值，f是频率，fmax表示频率上限，fmin表示频率下限。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国人民解放军军事科学院国防科技创新研究院 基于随机拓扑的超构材料微结构生成与联合仿真评估方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD