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申请/专利权人：铠侠股份有限公司
申请日：2023-08-17
公开（公告）日：2024-06-21
公开（公告）号：CN118226705A
主分类号：G03F7/00
分类号：G03F7/00
优先权：["20221219 JP 2022-202348"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.21#公开
摘要：本发明的实施方式涉及一种压印装置、图案形成方法及半导体装置的制造方法。实施方式的压印装置具备：吸盘，具有能够调整具有压射区域的衬底的温度的调温部，且能够保持衬底；模板平台，能够以使具有图案的面与衬底对向的状态保持模板，并改变衬底与模板在面方向上的相对位置及相对距离；及控制部，控制吸盘及模板平台；控制部基于图案与压射区域的倍率误差，控制调温部而调整衬底的温度，并控制模板平台而使所述图案转印到温度经调整的衬底的压射区域。
主权项：1.一种压印装置，具备：吸盘，具有能够调整具有压射区域的衬底的温度的调温部，且能够保持所述衬底；模板平台，能够以使具有图案的面与所述衬底对向的状态保持模板，并改变所述衬底与所述模板在面方向上的相对位置；及控制部，控制所述吸盘及所述模板平台；所述控制部将所述衬底保持在所述吸盘，基于所述图案与所述压射区域的倍率误差，控制所述调温部而调整所述衬底的温度，并控制所述模板平台，使所述图案转印到温度经调整的所述衬底的所述压射区域。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 铠侠股份有限公司 压印装置、图案形成方法及半导体装置的制造方法
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