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一种等比例X交叉型三维掺杂硅基耗尽型电光调制器及其制备方法 

申请/专利权人:中国科学院上海微系统与信息技术研究所

申请日:2024-04-07

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN118244519A

主分类号:G02F1/015

分类号:G02F1/015;G02F1/025

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.25#公开

摘要:本发明涉及一种等比例X交叉型三维掺杂硅基耗尽型电光调制器及其制备方法,所述电光调制器在光传播方向上设有单个周期波导,所述波导中央设置有脊波导,所述脊波导在光传播方向上设有第一轻掺杂区1和第二轻掺杂区2;所述第一轻掺杂区1的左斜PN结与第二轻掺杂区2的右斜PN结在第一轻掺杂区1和第二轻掺杂区2的交界面形成一个三维PN结。本发明通过构造等比例X交叉型的三维掺杂结构,实现了高效调制的硅基耗尽型调制器;这种调制器旨在提高调制效率和带宽,同时降低功耗,从而为大规模数据传输提供低功耗的解决方案,具有良好的市场应用前景。

主权项:1.一种等比例X交叉型三维掺杂硅基耗尽型电光调制器,所述电光调制器在光传播方向上设有单个周期波导,其特征在于:所述波导中央设置有脊波导,所述脊波导在光传播方向上设有第一轻掺杂区1和第二轻掺杂区2;所述第一轻掺杂区1的左斜PN结与第二轻掺杂区2的右斜PN结在第一轻掺杂区1和第二轻掺杂区2的交界面形成一个三维PN结。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 一种等比例X交叉型三维掺杂硅基耗尽型电光调制器及其制备方法

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