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申请/专利权人：珠海基石科技有限公司
申请日：2024-05-28
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118244581A
主分类号：G03F7/004
分类号：G03F7/004;G03F7/09;G03F7/00;H01L21/027
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本申请提供了组合物及其制备方法、图案化薄膜、图案化基底、半导体器件及其制备方法。该组合物中的添加剂可以抑制金属有机团簇在溶剂中的定向排列，从而使得组合物可在常温或低温下长时间储存，并且，长时间存储后组合物涂布形成的涂层的均一性和曝光稳定性均较优，对辐射光源的敏感性高，经辐射后形成的图案的分辨率高、粗糙度较低。故，本申请提供的组合物具有较高的实际应用价值，利于高性能芯片产业的发展。
主权项：1.一种组合物，其特征在于，包括金属有机团簇、添加剂以及溶剂；所述金属有机团簇包括MxOyOHnL1aL2bL3cL4dZm，3≤x≤72，0≤y≤72，0≤a≤72，0≤b≤72，0≤c≤72，0≤n≤72，0≤m≤72，y+n+a+b+c+d+m8x，x、y、a、b、c、d、m、n均为整数且a、b、c、d不同时为0；M为金属元素，L1、L2、L3、L4各自独立地选自辐射敏感性有机配体，Z选自无机离子或配位基团；所述添加剂为具有极性端和非极性端的有机化合物，且所述添加剂在所述组合物中不解离形成离子。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 珠海基石科技有限公司 组合物及其制备方法、图案化薄膜、图案化基底、半导体器件及其制备方法
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