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一种氢气中卤素和硫含量的前处理装置和方法 

申请/专利权人:上海茗准科学仪器有限公司

申请日:2024-03-29

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118258670A

主分类号:G01N1/34

分类号:G01N1/34;G01N1/42;G01N1/40;G01N30/02;G01N30/06;G01N30/12;G01N30/96

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.28#公开

摘要:本申请涉及气体检测技术领域的一种氢气中卤素和硫含量的前处理装置和方法,前处理装置包括依次连接的气体富集分离结构、气体燃烧结构和气体吸收结构;气体富集分离结构包括:液氮容器;主管路,主管路两端分别形成第一进口和第一出口,第一出口与气体燃烧结构连接,主管路上形成有能够置入液氮容器的气体浓缩管路;第一气体质量流量控制器,连接于主管路上,位于气体浓缩管路靠近第一进口的一侧;加热器,安设于气体浓缩管路的外侧。本申请的前处理装置可以将氢气与所含卤素和硫的成分完全分离,并且可以最大程度的富集大量氢气中微量的卤素和硫的成分,对氢气中卤素和硫含量的检测的稳定性大大增加,检出下限大大降低,并保证检测准确度。

主权项:1.一种氢气中卤素和硫含量的前处理装置,其特征在于,包括依次连接的气体富集分离结构、气体燃烧结构和气体吸收结构;所述气体富集分离结构包括:液氮容器;主管路,所述主管路两端分别形成第一进口和第一出口,所述第一出口与所述气体燃烧结构连接,所述主管路上形成有能够置入所述液氮容器的气体浓缩管路;第一气体质量流量控制器,连接于所述主管路上,位于所述气体浓缩管路靠近所述第一进口的一侧;加热器,安设于所述气体浓缩管路的外侧。

全文数据:

权利要求:

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