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申请/专利权人：三星电子株式会社
摘要：提供了产生光学邻近校正模型的方法、校正光学邻近校正模型的方法、以及制造半导体装置的方法。产生光学邻近校正模型的方法包括：在目标图案的扫描电子显微镜图像的第一测量点处测量第一目标临界尺寸值，并在第二测量点处测量第二目标临界尺寸值；相对于目标图案的光学邻近校正模型的轮廓上的第一评估点通过使用第一目标临界尺寸值模拟光学邻近校正模型，第一评估点与第一测量点相对应；相对于轮廓上的第二评估点通过使用第二目标临界尺寸值模拟光学邻近校正模型，第二评估点与第二测量点相对应；以及将光学邻近校正模型拟合到第一评估点和第二评估点中的每一个。
主权项：1.一种用于产生光学邻近校正模型的方法，所述方法包括：在目标图案的扫描电子显微镜图像的第一测量点处测量第一目标临界尺寸值，并在所述目标图案的所述扫描电子显微镜图像的第二测量点处测量第二目标临界尺寸值；相对于所述光学邻近校正模型的轮廓上的第一评估点使用所述第一目标临界尺寸值模拟所述光学邻近校正模型，所述第一评估点与所述第一测量点相对应；相对于所述轮廓上的第二评估点使用所述第二目标临界尺寸值模拟所述光学邻近校正模型，所述第二评估点与所述第二测量点相对应；以及将所述光学邻近校正模型拟合到所述第一评估点和所述第二评估点中的每一个。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 三星电子株式会社 产生光学邻近校正模型的方法和制造半导体装置的方法
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