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申请/专利权人：全芯智造技术有限公司
摘要：根据本公开的示例实施例提供了用于版图处理的方法、设备和介质。该方法包括：获取与目标版图中的目标图形段对应的采样点处的仿真信号，仿真信号用于模拟基于目标版图进行光刻而在晶圆上产生的光学信号。基于仿真信号在采样点处的信号变化信息和采样点在目标版图中的当前位置，确定采样点在目标版图中的目标位置。根据在目标位置处的采样点，更新目标图形段在目标版图中的位置。以此方式，可以确定能够更准确的代表图形段的整体仿真信号的采样点，从而能够更好的补偿晶圆上的图形失真情况，以提高光学邻近效应修正优化效果。
主权项：1.一种用于版图处理的方法，包括：获取与目标版图中的目标图形段对应的采样点处的仿真信号，所述仿真信号用于模拟基于所述目标版图进行光刻而在晶圆上产生的光学信号；以及基于所述仿真信号在所述采样点处的信号变化信息和所述采样点在所述目标版图中的当前位置，确定所述采样点在所述目标版图中的目标位置。
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百度查询： 全芯智造技术有限公司 用于版图处理的方法、设备和介质
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