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申请/专利权人：合肥科晶材料技术有限公司
申请日：2024-03-21
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN118186377A
主分类号：C23C16/52
分类号：C23C16/52;C23C16/46
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.14#公开
摘要：本发明提供一种适用于原位分析的微型CVD炉,包括：法兰支架一、法兰支架二、加热炉组件、光学显微镜、调节组件以及电路控制组件，与现有技术相比，本发明具有如下的有益效果：通过在加热炉组件中安装加热件一、加热件二，加热件一、加热件二均为是以氮化硅陶瓷为基体，以钨丝为发热源，能快速升温到1100℃，具有瞬间高温、速度快、效率高、寿命长特点，保证加热件一、加热件二的正常工作和提升其使用寿命，降低维护和更换的频率，调节组件的设置，能够达到精确调节加热件一与加热件二之间的间距的目的，实现加热件一、加热件二之间的间隙可以进行调整，加热件一、加热件二之间距离通过调节组件的调整可以生成不同厚度的新材料，便于进行研究。
主权项：1.一种适用于原位分析的微型CVD炉，包括：法兰支架一100、法兰支架二300、加热炉组件400、光学显微镜200、调节组件500以及电路控制组件600，其特征在于，所述法兰支架一100与加热炉组件400右端固定有，所述加热炉组件400左端与法兰支架二300上端固定连接；所述加热炉组件400置于光学显微镜200下侧，所述光学显微镜200通过加热线、热电偶线与电路控制组件600连接，所述法兰支架二300下侧安装有调节组件500。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 合肥科晶材料技术有限公司 一种适用于原位分析的微型CVD炉
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