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申请/专利权人：南开大学
申请日：2024-02-19
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN118186370A
主分类号：C23C16/455
分类号：C23C16/455;C23C16/52;C23C16/54
优先权：
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.14#公开
摘要：一种连续型ALDCVD装置，涉及薄膜沉积技术领域。包括前驱体源、ALD阀门、抽空气路、载气气路、样品，前驱体气路连接前驱体源，前驱体气路上设有ALD阀门，抽空气路位于前驱体气路两侧，用于接通真空泵抽走残留前驱体和反应副产物，载气气路在最外侧，用于接通惰性气体，前驱体源的出气口与晶圆片相对，晶圆片由传送带进行传送，通过设有或不设有载气气路形成ALD脉冲模块或CVD脉冲模块。与现有的空间原子层沉积技术相比更加节省前驱体和时间，能大大提高生产效率和降低成本。本发明具有更多的工作模式，能够更好地满足生产需求，更加灵活的调节生产工艺。
主权项：1.一种连续型ALDCVD装置，其特征是：包括前驱体源、ALD阀门3、抽空气路4、载气气路5、样品6，前驱体气路13连接前驱体源，前驱体气路13上设有ALD阀门，抽空气路4位于前驱体气路13两侧，用于接通真空泵抽走残留前驱体和反应副产物，载气气路5在最外侧，用于接通惰性气体，前驱体源的出气口与晶圆片相对，晶圆片由传送带进行传送，通过设有或不设有载气气路形成ALD脉冲模块或CVD脉冲模块。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 南开大学 一种连续型ALD/CVD装置
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