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申请/专利权人：瓦尔特公开股份有限公司;弗劳恩霍夫应用研究促进协会
申请日：2022-11-15
公开（公告）日：2024-06-14
公开（公告）号：CN118202083A
主分类号：C23C16/02
分类号：C23C16/02;C23C16/40;C23C28/04
优先权：["20211116 EP 21208554.2"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.14#公开
摘要：本发明涉及一种制造切屑形成金属加工用的经涂覆的切削工具的方法，所述经涂覆的切削工具由硬质合金、金属陶瓷或立方氮化硼系陶瓷材料的基体以及单层或多层的耐磨硬质涂层组成，所述硬质涂层的层包含通过化学气相沉积CVD沉积的平均厚度在1μm至20μm范围内的至少一个α相Al2O3涂层，其中所述α相Al2O3涂层的所述沉积通过在600至900℃的温度范围内的温度下使用引入CVD反应器中的工艺气体组合物进行，所述工艺气体组合物包含AlCl3、H2O、H2以及任选的MCI和或硫源，或者由AlCl3、H2O、H2以及任选的MCI和或硫源组成，所述硫源选自H2S、SF6、SO2和SO3，其中在引入所述CVD反应器中的所述工艺气体组合物中，H2OAlCl3的体积比在0.5至2.5的范围内，并且H2AlCl3的体积比在200至3000的范围内。
主权项：1.一种制造切屑形成金属加工用的经涂覆的切削工具的方法，所述经涂覆的切削工具由硬质合金、金属陶瓷或立方氮化硼系陶瓷材料的基体以及单层或多层的耐磨硬质涂层组成，所述硬质涂层的层包含通过化学气相沉积CVD而沉积的平均厚度在1μm至20μm范围内的至少一个α相Al2O3涂层，其中所述α相Al2O3涂层的所述沉积通过以下进行：-在600至900℃的温度范围内的温度下，-使用引入CVD反应器中的工艺气体组合物，所述工艺气体组合物包含AlCl3、H2O、H2以及任选的HCl和或硫源，或者由AlCl3、H2O、H2以及任选的HCl和或硫源组成，所述硫源选自H2S、SF6、SO2和SO3，其中在引入所述CVD反应器中的所述工艺气体组合物中，-H2OAlCl3的体积比在0.5至2.5的范围内，并且-H2AlCl3的体积比在200至3000的范围内。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 瓦尔特公开股份有限公司;弗劳恩霍夫应用研究促进协会 中温CVD α氧化铝涂层
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