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【发明公布】三维NAND存储装置及其形成方法_长江存储科技有限责任公司_202211651058.3 

申请/专利权人:长江存储科技有限责任公司

申请日:2022-12-21

公开(公告)日:2024-06-21

公开(公告)号:CN118234240A

主分类号:H10B43/35

分类号:H10B43/35;H10B43/27

优先权:

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.21#公开

摘要:公开了一种半导体装置,其包括在Z方向上向上堆叠并且平行于X‑Y平面延伸的N个层叠。N为大于1的整数。每个层叠包括交替的字线层和绝缘层。N个层叠包括第一层叠和与第一层叠相邻的第二层叠。多层叠栅缝隙GLS结构在X‑Z平面中延伸并且切割穿过N个层叠的字线层和绝缘层。多层叠GLS结构在第一层叠中具有第一侧壁,在第二层叠中具有第二侧壁,并且在第一层叠和第二层叠之间的边界处具有第三侧壁。第三侧壁连接第一侧壁和第二侧壁。

主权项:1.一种半导体装置,包括:N个层叠,所述N个层叠在Z方向上向上堆叠并且平行于X-Y平面延伸,N为大于1的整数,所述X-Y平面垂直于所述Z方向并且具有X方向和垂直于所述X方向的Y方向,每个层叠包括交替的字线层和绝缘层,所述N个层叠包括第一层叠和与所述第一层叠相邻的第二层叠:以及多层叠栅缝隙GLS结构,在X-Z平面中延伸并且切割穿过所述N个层叠的所述字线层和所述绝缘层,其中:所述多层叠GLS结构在所述第一层叠中具有第一侧壁,在所述第二层叠中具有第二侧壁,并且在所述第一层叠和所述第二层叠之间的边界处具有第三侧壁,所述第三侧壁连接所述第一侧壁和所述第二侧壁。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 长江存储科技有限责任公司 三维NAND存储装置及其形成方法

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