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申请/专利权人：豪雅株式会社
申请日：2023-12-19
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118244571A
主分类号：G03F1/22
分类号：G03F1/22;G03F1/54;G03F1/62;G03F1/80
优先权：["20221222 JP 2022-205316"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本发明提供满足对包含紫外光区的波长的曝光光的高耐光性要求的掩模坯料。所述掩模坯料在透光性基板上具备图案形成用的薄膜，薄膜含有过渡金属和硅，在通过全电子产额法获得的薄膜的表层的X射线吸收谱中，将入射X射线能量EL为3180eV下的X射线吸收系数设为IL、将入射X射线能量EH为3210eV下的X射线吸收系数设为IH时，IH－ILEH－EL为‑6.0×10‑4以上。
主权项：1.一种掩模坯料，其在透光性基板上具备图案形成用的薄膜，所述薄膜含有过渡金属和硅，在通过全电子产额法获得的所述薄膜的表层的X射线吸收谱中，将入射X射线能量EL为3180eV下的X射线吸收系数设为IL、将入射X射线能量EH为3210eV下的X射线吸收系数设为IH时，IH－ILEH－EL为-6.0×10-4以上。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 豪雅株式会社 掩模坯料、转印用掩模、转印用掩模的制造方法、及显示装置的制造方法
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皖公网安备 34010402703815号