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与半导体器件集成的肖特基二极管 

申请/专利权人:模拟电力转换有限责任公司;株式会社京三制作所

申请日:2022-09-09

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN118251768A

主分类号:H01L27/07

分类号:H01L27/07;H01L29/78;H01L29/872

优先权:["20210914 US 17/475,255"]

专利状态码:在审-公开

法律状态:2024.06.25#公开

摘要:一种半导体器件包括具有第一区域和第二区域的半导体管芯,其中第二区域的工作温度低于第一区域的工作温度。多个第一槽分别设置在第一区域、第二区域或两者中。半导体器件还包括包含多个功率器件单元的功率器件,和具有多个二极管单元的二极管。功率器件单元设置在第一区域中的槽或槽的部分内,二极管单元设置在第二区域中的槽或槽的部分内。功率器件可以包括垂直金属氧化物半导体场效应晶体管MOSFET,并且二极管可以包括垂直肖特基势垒二极管SBD。

主权项:1.一种半导体器件,包括:半导体管芯,具有第一区域和第二区域,所述第二区域的工作温度低于所述第一区域的工作温度;多个第一槽,设置在所述第一区域中;多个第二槽,设置在所述第二区域中;功率器件,包括多个功率器件单元,所述功率器件单元分别设置在所述多个第一槽中;以及二极管,具有多个二极管单元,所述多个二极管单元分别设置在所述多个第二槽中。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 模拟电力转换有限责任公司;株式会社京三制作所 与半导体器件集成的肖特基二极管

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