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申请/专利权人：佳能株式会社
申请日：2020-05-18
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN118244574A
主分类号：G03F7/00
分类号：G03F7/00
优先权：["20190522 JP 2019-096252"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.25#公开
摘要：本发明提供曝光装置及物品的制造方法。曝光装置进行曝光处理以将掩模的图案转印至基板，曝光装置包括：投影光学系统，其被构造为将掩模的图案投影到基板上；测量图案，其布置在投影光学系统的物体平面上并且包括多个图案元素，所述多个图案元素在投影光学系统的光轴方向上具有不同的位置；第一检测单元，其被构造为经由投影光学系统检测来自测量图案的光；以及控制单元，其被构造为当进行曝光处理时，控制掩模与基板之间在光轴方向上的相对位置。
主权项：1.一种曝光装置，其进行曝光处理以将掩模的图案转印至基板，所述曝光装置包括：投影光学系统，其被构造为将所述掩模的图案投影到所述基板上；测量图案，其布置在所述投影光学系统的物体平面上并且包括多个图案元素；第一检测单元，其被构造为经由所述投影光学系统检测来自所述测量图案的光；以及控制单元，其被构造为基于第一光量分布和第二光量分布来控制所述掩模与所述基板之间在所述投影光学系统的光轴方向上的相对位置，其中，所述第一光量分布表示，从所述第一检测单元在第一定时的检测结果中获得的、通过所述多个图案元素中的各个的光的光量，其中，所述第二光量分布表示，从所述第一检测单元在第二定时的检测结果中获得的、通过所述多个图案元素中的各个的光的光量，并且其中，所述第二定时是在所述第一定时之后进行曝光处理之后的定时。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 佳能株式会社 曝光装置及物品的制造方法
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