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申请/专利权人：TOTO株式会社
申请日：2020-03-04
公开（公告）日：2024-06-25
公开（公告）号：CN111668151B
主分类号：H01L21/683
分类号：H01L21/683;H01L21/67;H01J37/32
优先权：["20190305 JP 2019-039864","20200130 JP 2020-013663"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.06.25#授权;2021.10.29#实质审查的生效;2020.09.15#公开
摘要：本发明的静电吸盘具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、向所述第1主面开口的槽；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板且具有气体导入路；及第1多孔质部，设置于所述气体导入路之间，所述陶瓷电介体基板具有多个孔，其连通所述槽与所述气体导入路，在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向上穿通所述陶瓷电介体基板，所述第1多孔质部具有：多孔区域，具有多个孔；及致密区域，比所述多孔区域更致密，所述多孔区域还具有致密部，当向垂直于所述第1方向的平面进行投影时，设置于所述陶瓷电介体基板的所述多个孔的至少1个构成为与所述致密部的至少1个发生重叠。
主权项：1.一种静电吸盘，具备：陶瓷电介体基板，具有放置吸附对象物的第1主面、所述第1主面相反侧的第2主面、向所述第1主面开口的至少1个槽；基座板，支撑所述陶瓷电介体基板且具有气体导入路；及第1多孔质部，设置于所述槽与所述气体导入路之间，其特征为，所述陶瓷电介体基板具有多个孔，其连通所述槽与所述气体导入路，在从所述基座板朝向所述陶瓷电介体基板的第1方向上穿通所述陶瓷电介体基板，所述第1多孔质部具有：至少1个多孔区域，具有多个孔；及至少1个致密区域，比所述多孔区域更致密，所述多孔区域还具有至少1个致密部，当向垂直于所述第1方向的平面进行投影时，所述致密部配置成在周围设置有所述多孔区域，当向垂直于所述第1方向的平面进行投影时，设置于所述陶瓷电介体基板的所述多个孔的至少1个构成为与所述致密部的至少1个发生重叠。
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