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申请/专利权人：安徽精石技术有限公司
摘要：本发明涉及一种大型光掩膜基板用清洗装置及其使用方法，包括外壳、进料模块、推送模块、浸料模块和清洗模块，所述外壳呈中空的圆柱形结构，外壳右侧面上安装有进料模块，外壳上端面上安装有推送模块，外壳内部安装有清洗模块，清洗模块外侧面与外壳之间设置有浸泡腔，浸泡腔内部下端填充有清洗液，浸泡腔内设置有浸料模块，浸料模块安装在清洗模块外侧面上。本发明可以对光掩膜基板上残留的光刻胶完全浸泡清除，并且夹持单元中的夹持杆数量为多组布置，使得光掩膜基板未被冲洗的地方可以完全清洗，保证光掩膜基板清洗的准确性。
主权项：1.一种大型光掩膜基板用清洗装置，包括外壳1、进料模块2、推送模块3、浸料模块4和清洗模块5，其特征在于，所述外壳1呈中空的圆柱形结构，外壳1右侧面上安装有进料模块2，外壳1上端面上安装有推送模块3，外壳1内部安装有清洗模块5，清洗模块5外侧面与外壳1之间设置有浸泡腔，浸泡腔内部下端填充有清洗液，浸泡腔内设置有浸料模块4，浸料模块4安装在清洗模块5外侧面上，其中：所述浸料模块4包括电动转盘41、转动座42、连接架43、转动架44、固定单元45和夹持柱46，所述清洗模块5两端对称安装有电动转盘41，电动转盘41外侧均匀设置有转动座42，转动座42外侧面上安装有连接架43，相对设置的连接架43之间安装有转动架44，转动架44呈中空的U形结构，转动架44中部设置有出料槽，转动架44内部设置有固定单元45，固定单元45内侧位于出料槽内，转动架44中部均匀安装有夹持柱46，夹持柱46呈对称设置，出料槽内壁上均匀安装有转辊；所述清洗模块5包括固定柱51、排水管52、清洗架53、离心单元54、推料单元55和夹持单元56，所述外壳1中部安装有固定柱51，固定柱51呈中空的圆柱形结构，固定柱51上端设置有进料口，进料口与出料槽相配合，固定柱51前侧面中部设置有横向开设的出料口，固定柱51前侧面下端安装有排水管52，固定柱51内侧面上对称安装有清洗架53，固定柱51中部设置有离心单元54，离心单元54的内部设置有推料单元55，离心单元54的中部均匀设置有夹持单元56。
全文数据：
权利要求：
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