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申请/专利权人：源卓微纳科技(苏州)股份有限公司
摘要：本发明涉及一种所述多工位曝光设备及曝光方法，包括基座和支撑架，其特征在于：其还包括多工位运动平台、曝光系统和对位系统，所述多工位运动平台设置于基座，所述支撑架位于所述基座中间位置，设置有曝光系统，所述多工位运动平台包括至少两组导轨及沿所述导轨滑动设置的工作台，所述至少两组导轨平行设置或者垂直设置，其中一组导轨设置两个工作台，另一组导轨至少设置一个工作台，所述曝光系统包括光源和掩膜装置，工件经对位系统对位后，至曝光系统进行掩膜曝光。通过多个工作台有序交替运动，互不干扰，各工序有序配合，缩短交互等待时间，充分利用曝光时间短的特性，最大化发挥曝光系统的产能。
主权项：1.一种所述多工位曝光设备，包括基座和支撑架，其特征在于：其还包括多工位运动平台、曝光系统和对位系统，所述多工位运动平台设置于基座，所述支撑架位于所述基座中间位置，设置有曝光系统，所述多工位运动平台包括至少两组导轨及沿所述导轨滑动设置的工作台，所述至少两组导轨平行设置或者垂直设置，其中一组导轨设置两个工作台，另一组导轨至少设置一个工作台，所述曝光系统包括光源和掩膜装置，工件经对位系统对位后，至曝光系统进行掩膜曝光。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 源卓微纳科技(苏州)股份有限公司 一种多工位曝光设备及曝光方法
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