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申请/专利权人：中微半导体设备(上海)股份有限公司
摘要：本发明公开一种原子层沉积设备及其维护方法，该原子层沉积设备包括：反应腔，其包括腔体和顶盖；基座，设置于腔体底部；喷淋头，设置于顶盖底面；气体输送系统，其包括：若干个气体源，用于供应沉积过程中使用的气体；导气装置，设置于顶盖上，用于向喷淋头供应气体；若干个阀门，每一阀门包括与气体源连接的入口端及与导气装置连接的出口端；阀门在顶盖所在平面的正投影至少部分与顶盖重合且与导气装置在该平面的正投影不重合。本发明通过限制阀门与导气装置之间的位置关系，在断开阀门与导气装置之间的连接对设备进行维护时，能够缩短维护后吹扫管道的清洁时间，同时在工艺过程中能够保证气体供给的响应时间等性能，提高原子层沉积质量与效率。
主权项：1.一种原子层沉积设备，包括：反应腔，其包括腔体和设置于所述腔体顶部的顶盖；基座，设置于所述腔体的底部，用于承载基片；喷淋头，设置于所述顶盖的底面；其特征在于，所述原子层沉积设备还包括：气体输送系统，其包括：若干个气体源，用于供应沉积过程中使用的气体；导气装置，设置于所述顶盖上，用于向所述喷淋头供应所述气体；以及若干个阀门，每一所述阀门包括：与所述气体源连接的入口端以及与所述导气装置连接的出口端；所述阀门在所述顶盖所在平面的正投影至少部分与所述顶盖重合且与所述导气装置在所述平面的正投影不重合。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中微半导体设备(上海)股份有限公司 原子层沉积设备及其维护方法
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