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版图设计方法及版图结构 

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申请/专利权人:北京超弦存储器研究院

摘要:本公开涉及一种版图设计方法及版图结构。所述版图设计方法包括:获取待剪切图形在目标方向上的尺寸为参考尺寸;基于参考尺寸,选择至少两个矩形在目标方向上依次交叠,获得联合图形;对联合图形进行光学邻近修正,获得剪切图形;基于待剪切图形,确定剪切图形的轮廓是否符合目标孔形;若是,则确定联合图形为剪切图形的设计版图;若否,则调节矩形的长宽尺寸及相邻矩形的交叠尺寸,以重新获得联合图形。本公开可以提高线性图形的剪切精准度及其面积利用率。

主权项:1.一种版图设计方法,其特征在于,应用于剪切图形版图;所述方法包括:获取待剪切图形在目标方向上的尺寸为参考尺寸;基于所述参考尺寸,选择至少两个矩形在所述目标方向上依次交叠,获得联合图形;对所述联合图形进行光学邻近修正,获得剪切图形;基于所述待剪切图形,确定所述剪切图形的轮廓是否符合目标孔形;若是,则确定所述联合图形为所述剪切图形的设计版图;若否,则调节所述矩形的长宽尺寸及相邻所述矩形的交叠尺寸,以重新获得所述联合图形。

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