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【发明授权】III族氮化物半导体发光元件及其制造方法_同和电子科技有限公司_201980063471.8 

申请/专利权人:同和电子科技有限公司

申请日:2019-09-25

公开(公告)日:2024-06-18

公开(公告)号:CN112753108B

主分类号:H01L33/32

分类号:H01L33/32;C23C16/34;H01L21/205;H01L33/14

优先权:["20180928 JP 2018-184555"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.18#授权;2021.05.21#实质审查的生效;2021.05.04#公开

摘要:提供一种III族氮化物半导体发光元件及其制造方法,该III族氮化物半导体发光元件可以抑制发光输出的经时变化,并且具有比以往更优异的发光输出。本发明的III族氮化物半导体发光元件100的发光波长为200nm~350nm,依次具备n型层30、发光层40、电子阻挡层60和p型接触层70,电子阻挡层60具有共掺杂区域层60c,p型接触层60为p型AlxGa1‑xN0≤x≤0.1,p型接触层60的厚度为300nm以上。

主权项:1.一种III族氮化物半导体发光元件,其是发光波长为200nm~350nm的III族氮化物半导体发光元件,其特征在于,依次具备n型层、发光层、电子阻挡层和p型接触层,所述电子阻挡层具有共掺杂区域层,所述p型接触层为p型AlxGa1-xN0≤x≤0.1,所述p型接触层的厚度为500nm以上且1500nm以下。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 同和电子科技有限公司 III族氮化物半导体发光元件及其制造方法

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