申请/专利权人:淮安澳洋顺昌光电技术有限公司
申请日:2022-06-16
公开(公告)日:2024-06-21
公开(公告)号:CN114824012B
主分类号:H01L33/14
分类号:H01L33/14;H01L33/06;H01L33/32;H01L33/00
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.06.21#授权;2022.08.16#实质审查的生效;2022.07.29#公开
摘要:本发明涉及半导体领域,公开了一种GaN基LED外延结构及其制备方法和发光二极管,该外延结构包括衬底(101),以及在衬底上依次生长的nGaN层(104)、量子阱层(106)以及pGaN层(109);在量子阱层与pGaN层之间还生长有低温pGaN层(107),低温pGaN层由碳杂质含量较高的三甲基镓子层(1071)和碳杂质含量较低的三乙基镓子层(1072)交替生长而成。与现有技术相比,本发明采用三甲基镓与三乙基镓交替生长的方式形成低温PGaN层,降低低温PGaN层中碳杂质含量,降低了低温PGaN的电阻率,进而降低了发光二极管的正向电压,提高了发光二极管的发光效率。
主权项:1.一种GaN基LED外延结构,包括衬底(101),以及在所述衬底(101)上依次生长的nGaN层(104)、量子阱层(106)以及pGaN层(109);其特征在于,在所述量子阱层(106)与pGaN层(109)之间还生长有低温pGaN层(107),所述低温pGaN层(107)由碳杂质含量较高的三甲基镓子层(1071)和碳杂质含量较低的三乙基镓子层(1072)交替生长而成;所述三甲基镓子层(1071)中的碳杂质含量比三乙基镓子层(1072)中的碳杂质含量至少高一个数量级。
全文数据:
权利要求:
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