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基板处理装置和基板处理方法 

申请/专利权人:株式会社荏原制作所

申请日:2020-01-22

公开(公告)日:2024-06-25

公开(公告)号:CN111515811B

主分类号:B24B21/04

分类号:B24B21/04;B24B37/005;B24B37/04;B24B37/10;B24B37/30;B24B47/20;B24B49/12;H01L21/67

优先权:["20190201 JP 2019-016830"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.25#授权;2022.02.18#实质审查的生效;2020.08.11#公开

摘要:本发明提供一种基板处理装置,能够使基板的中心与处理台的轴心高精度地对准,而防止产生不良基板。基板处理装置具备:偏心检测机构54,该偏心检测机构取得定心台10所保持的基板W的中心相对于定心台10的轴心C1的偏心量和偏心方向;以及对准器36、41、75,该对准器使基板W的中心与处理台20的轴心C2对准。对准器36、41、75在将基板W从定心台10交接到处理台20之后,使用偏心检测机构54而取得基板W的中心相对于处理台20的轴心C2的偏心量和偏心方向,并且该对准器确认所取得的基板W的中心相对于处理台20的轴心C2的偏心量处于规定的允许范围内。

主权项:1.一种基板处理装置,具有将研磨工具向基板的周缘部按压的研磨头,通过将研磨工具向所述基板的周缘部按压而对所述基板的周缘部进行研磨,其特征在于,具备:定心台,该定心台保持基板的下表面内的第一区域;处理台,该处理台保持所述基板的下表面内的第二区域;工作台升降机构,该工作台升降机构使所述定心台在比所述处理台高的上升位置与比所述处理台低的下降位置之间移动;定心台旋转机构,该定心台旋转机构使所述定心台以该定心台的轴心为中心进行旋转;处理台旋转机构,该处理台旋转机构使所述处理台以该处理台的轴心为中心进行旋转;偏心检测机构,该偏心检测机构使所述定心台旋转而取得由所述定心台保持时的所述基板的中心相对于所述定心台的轴心的偏心量和偏心方向;对准器,该对准器基于所述定心台所保持的所述基板的中心相对于所述定心台的轴心的偏心量和偏心方向而执行使所述基板的中心与所述处理台的轴心对准的定心动作;以及动作控制部,该动作控制部控制所述基板处理装置的动作,所述处理台由具有环状的基板保持面的扩径部和支承该扩径部的缩径部构成,所述扩径部的基板保持面具有比所述基板的直径小的外径,所述偏心检测机构包括偏心检测部,该偏心检测部对所述定心台所保持的所述基板的中心相对于所述定心台的轴心的偏心量和偏心方向、以及所述处理台所保持的所述基板的中心相对于所述处理台的轴心的偏心量和偏心方向进行测定,所述偏心检测部是具备发出光的投光部以及接收由所述投光部发出的光的受光部的光学式偏心传感器,该投光部配置于所述基板保持面的上方或下方,该受光部配置于所述基板保持面的下方或上方,所述对准器在将所述基板从所述定心台交接到所述处理台并进行保持之后,使用所述偏心检测机构使所述处理台旋转而取得所述处理台所保持的所述基板的中心相对于所述处理台的轴心的偏心量和偏心方向,所述对准器确认所取得的所述基板的中心相对于所述处理台的轴心的偏心量处于规定的允许范围内,在所取得的所述基板的中心相对于所述处理台的轴心的偏心量处于规定的允许范围外的情况下,所述对准器重复进行所述定心动作,在所取得的所述基板的中心相对于所述处理台的轴心的偏心量处于规定的允许范围内的情况下,使用所述动作控制部,一边使所述基板旋转,一边通过将所述研磨工具向所述基板的周缘部按压而对所述基板的周缘部进行研磨。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 株式会社荏原制作所 基板处理装置和基板处理方法

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