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一种光刻晶片性能测试分析系统 

申请/专利权人:南京禄宪自动化科技有限公司

申请日:2024-04-23

公开(公告)日:2024-06-28

公开(公告)号:CN118092089B

主分类号:G03F7/20

分类号:G03F7/20;H01L21/66

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.06.28#授权;2024.06.14#实质审查的生效;2024.05.28#公开

摘要:本发明属于光刻晶片测试分析技术领域,具体公开一种光刻晶片性能测试分析系统,本发明通过获取批量光刻晶片中每个光刻晶片的外观,由此进行相似分组,得到若干测试组,使得每个测试组中光刻晶片的外观存在较高的共性,进而能够在进行每个测试组的光刻分辨率测试时使用统一的测试参数,从而最大限度地减少测试设备切换和调整的时间,不仅提高了测试效率,还实现了测试设备的高利用,同时也有利于测试数据的归纳汇总,紧接着通过将同一测试组内各光刻晶片的测试结果进行分化对比,由此基于对比结果来评估光刻分辨率测试准确度,实现了测试结果准确度的可靠评估,另外分组测试参照对比有利于识别异常情况。

主权项:1.一种光刻晶片性能测试分析系统,其特征在于,包括:批量光刻晶片外观检测模块,用于统计待进行性能检测的批量光刻晶片数量,并检测各光刻晶片对应的外观参数,具体包括尺寸、形状轮廓和表面特征,其中表面特征包括光洁度、平坦度和表面粗糙度;光刻晶片分组模块,用于将各光刻晶片对应的外观参数进行相似对比,由此将批量光刻晶片进行分组,得到若干测试组,并识别各测试组对应的分组标志;适配测试设施设置模块,用于基于各测试组对应的分组标志选取光刻分辨率对应的适配测试设备,并设置适配测试参数;光刻分辨率分组测试模块,用于将各测试组包含的光刻晶片按照相应测试组对应的适配测试设备和适配测试参数进行光刻分辨率测试,得到各测试组中各光刻晶片对应的光刻分辨率测试结果;测试准确性评估模块,用于将各测试组中各光刻晶片对应的光刻分辨率测试结果进行对比,进而根据对比结果评估光刻分辨率测试准确度;光刻分辨率对比分析模块,用于依据各测试组对应的分组标志从各测试组包含的光刻晶片中选取对照组,并获取各对照组对应的表面特征自变量和表面特征控制变量;关联表面特征识别模块,用于基于各对照组对应的表面特征自变量和表面特征控制变量将各对照组内光刻晶片对应的光刻分辨率测试结果进行对比分析,从中识别光刻分辨率对应的关联表面特征;所述评估光刻分辨率测试准确度参见下述过程:将同一测试组中各光刻晶片对应的光刻分辨率测试结果进行对比,从中选取最大光刻分辨率测试结果、最小光刻分辨率测试结果,作为各测试组对应的分辨率测试最大值与分辨率测试最小值;各测试组对应的分辨率测试最大值与分辨率测试最小值导入,得到各测试组对应的测试结果分化度,表示自然常数;将各测试组对应的测试结果分化度与设置的允许分化度进行对比,从中统计测试结果分化度小于或等于允许分化度的测试组数量,记为有效测试组数量;将有效测试组数量与划分的测试组总数量进行对比,通过表达式计算出光刻分辨率测试准确度,其中、分别表示有效测试组数量、划分的测试组总数量;所述依据各测试组对应的分组标志从各测试组包含的光刻晶片中选取对照组实现过程如下:从分组标记中提取表面特征,并依次取某表面特征作为自变特征,将其他表面特征作为控变特征;将各测试组进行编号,并按照编号顺序依次提取测试组作为目标测试组,进而将目标测试组与其他测试组对应表面特征中的控变特征进行相似对比,得到以各测试组作为目标测试组与其他测试组的控变特征相近度,同时将目标测试组与其他测试组对应表面特征中的自变特征进行区别对比,得到以各测试组作为目标测试组与其他测试组的自变特征区别度;将以各测试组作为目标测试组与其他测试组的控变特征相近度、自变特征区别度与预配的有效相近度、有效区别度进行对比,从而取控变特征相近度大于或等于有效相近度且自变特征区别度大于或等于有效区别度的其他测试组联合目标测试组构成一个对照组;所述各对照组对应的表面特征自变量和表面特征控制变量具体获取如下:将各对照组对应的自变特征作为表面特征自变量,将控变特征作为表面特征控制变量;所述识别光刻分辨率对应的关联表面特征参见下述过程:以表面特征自变量为横坐标,以光刻分辨率测试结果为纵坐标,构建二维坐标系,进而针对各对照组中存在的各光刻晶片对应的表面特征自变量和光刻分辨率测试结果在所构建的二维坐标系内标注若干点,形成各对照组对应的光刻分辨率变化曲线;将相同表面特征自变量对应的对照组进行归类,得到各表面特征自变量对应的若干对照组;将同一表面特征自变量中各对照组对应的光刻分辨率变化曲线进行对比,得到各表面特征对应的光刻分辨率关联度;将各表面特征对应的光刻分辨率关联度进行对比,从中选取光刻分辨率对应的关联表面特征;所述各表面特征对应的光刻分辨率关联度分析如下:分别对同一表面特征自变量中各对照组对应的光刻分辨率变化曲线获取各点的斜率,并基于各点的斜率计算变化曲线的变化率;将同一表面特征自变量中各对照组对应光刻分辨率变化曲线的变化率进行对比,通过表达式计算出各表面特征对应的光刻分辨率关联度,式中表示表面特征,且,其中分别表示光洁度、平坦度、表面粗糙度,表示第表面特征自变量中第对照组对应光刻分辨率变化曲线的变化率,,表示对照组的数量;所述光刻分辨率对应的关联表面特征的选取过程为:将各表面特征对应的光刻分辨率关联度进行对比,从中选取最大光刻分辨率关联度和最小光刻分辨率关联度,进而导入表达式得到关联差异度,表示自然常数;将关联差异度与设置的限定差异度进行对比,若关联差异度大于限定差异度,则取最大光刻分辨率关联度对应的表面特征作为光刻分辨率对应的关联表面特征,反之则将各表面特征对应的光刻分辨率关联度与高关联度进行对比,进而取大于或等于高关联度对应的表面特征作为光刻分辨率对应的关联表面特征。

全文数据:

权利要求:

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