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新型集成电路FOWLP工艺方法 

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申请/专利权人:日月新半导体(昆山)有限公司

摘要:本发明公开了集成电路技术领域的新型集成电路FOWLP工艺方法,S1、基板准备;S2、RDL层制作;S3、铜导线框架和芯片放置;S4、封装固化;S5、焊垫制备;S6、切割和封装。本发明通过优化RDL层的制作和芯片放置流程,确保了更高的布线精度和芯片对准精度,通过减小封装厚度和增加触点引脚数量,提高了信号传输的效率,减少了信号损失和干扰,采用ChipLast工艺,先进行RDL布线和测试,再放置合格芯片,提高了成品率和封装的长期稳定性,通过简化封装流程和提高材料利用率,降低了整体的封装成本,本发明的工艺方法不仅适用于调频射频芯片,还可以扩展到其他类型的信号芯片,具有广泛的适用性。

主权项:1.新型集成电路FOWLP工艺方法,其特征在于:包括如下步骤:S1、基板准备:首先准备基板,进行清洁和预处理,确保基板表面平整无污染;S2、RDL层制作:在基板上制作重布RDL层;S3、铜导线框架和芯片放置:将铜导线框架和合格的芯片放置在已经制作好RDL的基板上;S4、封装固化:在芯片和导线框架连接完成后,使用环氧塑模料将整个结构封装起来,然后进行固化,以保护内部结构并提供机械支撑;S5、焊垫制备:为焊垫提供焊接介质,以便于后续的焊接或连接;S6、切割和封装:进行切割,将封装好的芯片从基板上分离出来,完成封装。

全文数据:

权利要求:

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