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阻抗匹配方法、半导体工艺设备 

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申请/专利权人:北京北方华创微电子装备有限公司

摘要:本发明提供一种半导体工艺设备的阻抗匹配方法,包括:电容值确定阶段,检测工艺腔室中发生起辉且匹配器完成自动匹配后匹配器中多个电容的稳定电容值;匹配阶段,将匹配器中一个电容的电容值调节为对应的起辉电容值,并将其余多个电容的电容值调节为对应的稳定电容值,电容的起辉电容值小于电容的稳定电容值;启动电源,并将一个电容的电容值由起辉电容值调节至电容的稳定电容值。本发明提供的阻抗匹配方法能够实现快速稳定起辉,降低匹配器的匹配时间,提升工艺结果的一致性。本发明还提供一种半导体工艺设备。

主权项:1.一种用于半导体工艺设备的阻抗匹配方法,所述半导体工艺设备包括电源、匹配器和设置在工艺腔室中的上电极,所述电源通过所述匹配器与所述上电极连接,所述匹配器能够进行自动匹配,使得所述匹配器的输入阻抗与所述电源的输出阻抗一致,其特征在于,所述阻抗匹配方法包括:电容值确定阶段,检测所述工艺腔室中发生起辉且所述匹配器完成自动匹配后所述匹配器中多个电容的稳定电容值;匹配阶段,将所述匹配器中一个电容的电容值调节为对应的起辉电容值,并将其余多个电容的电容值调节为对应的稳定电容值,所述电容的起辉电容值小于所述电容的稳定电容值;启动所述电源,并将所述一个电容的电容值由所述起辉电容值调节至所述电容的稳定电容值,以将多个所述电容由所述电源启动前的一个确定状态调节为所述电源启动后的另一确定状态。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京北方华创微电子装备有限公司 阻抗匹配方法、半导体工艺设备

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