申请/专利权人：中国科学院微电子研究所

申请日：2019-06-03

公开（公告）日：2022-10-25

公开（公告）号：CN110187600B

主分类号：G03F1/76

分类号：G03F1/76;G03F1/38;G03F7/20

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.10.25#授权;2019.09.24#实质审查的生效;2019.08.30#公开

摘要：本发明提供一种根据规则添加SRAF的方法，涉及半导体技术领域，可提高光刻分辨率。该方法包括：获取目标图形，并确定投影区域；根据投影区域选择SRAF规则，并基于SRAF规则在投影区域中添加第一亚分辨率辅助图形；对第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理；根据子目标图形的位置、子目标图形的线宽、子目标图形与待形成的第二亚分辨率辅助图形之间的第二预设距离、待形成的第二亚分辨率辅助图形的线宽、以及待形成的第二亚分辨率辅助图形与第一亚分辨率辅助图像之间的第三预设距离，确定生长区域；去除第一亚分辨率辅助图形中位于生长区域的部分；根据子目标图形的位置、以及子目标图形的线宽，在生长区域内形成所述第二亚分辨率辅助图形。

主权项：1.一种根据规则添加SRAF的方法，其特征在于，包括：获取目标图形，并确定投影区域；所述目标图形包括多个子目标图形；根据所述投影区域选择SRAF规则，并基于所述SRAF规则在所述投影区域中添加第一亚分辨率辅助图形；若多个所述第一亚分辨率辅助图形的线宽相同，则对所述第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理，以使得沿与所述子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的多个所述第一亚分辨率辅助图形重排至同一竖直线上；其中，所述第一预设距离为15nm；所述冲突清理包括：移动至少一个所述第一亚分辨率辅助图形的位置，以使得沿与所述子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的与子目标图形的延伸方向垂直的方向多个所述第一亚分辨率辅助图形排布至同一竖直线上；根据所述子目标图形的位置、所述子目标图形的线宽、所述子目标图形与待形成的第二亚分辨率辅助图形之间的第二预设距离、待形成的所述第二亚分辨率辅助图形的线宽、以及待形成的所述第二亚分辨率辅助图形与所述第一亚分辨率辅助图像之间的第三预设距离，确定生长区域；所述生长区域位于所述子目标图形的两端、且和与其对应的所述子目标图形邻接；所述第二预设距离为40～120nm；所述第三预设距离为15～30nm；去除所述第一亚分辨率辅助图形中位于所述生长区域的部分；根据所述子目标图形的位置、以及所述子目标图形的线宽，在所述生长区域内形成所述第二亚分辨率辅助图形；每个所述生长区域内设有一个所述第二亚分辨率辅助图形；每个所述第二亚分辨率辅助图形与所述子目标图形的一端对应，所述第二亚分辨率辅助图形和与其对应的所述子目标图形的一端正对设置，且其延伸方向和与其对应的所述子目标图形的一端的线宽方向平行。

全文数据：一种根据规则添加SRAF的方法技术领域本发明涉及半导体技术领域，尤其涉及一种根据规则添加SRAF的方法。背景技术随着版图图形尺寸的逐步缩小，在集成电路制造过程中，对光刻分辨率的要求也越来越高。为了获得更高的光刻分辨率，需要对版图目标图形进行修正，同时在目标图形周围添加亚分辨率辅助图形（SubResolutionAssistFeature，简称SRAF），以在曝光的过程中，使得与目标图形中排布较稀疏的部分对应的光刻胶接收到的光照强度，基本等于与目标图形中排布较密集的部分对应的光刻胶接收到的光照强度。现有技术通常利用基于模型的方法或基于SRAF规则的方法，添加亚分辨率辅助图形。然而，对于一个芯片的设计来说，目标图形的数据过于庞大，利用基于模型的方法添加亚分辨率辅助图形过于耗时。因此，目前主要依赖基于SRAF规则的方法添加亚分辨率辅助图形。对于现有的利用基于SRAF规则的方法添加亚分辨率辅助图形，是根据部分基于模型的方法，得到少量的用于测试的亚分辨率辅助图形，以及工程师的经验，从而提供一个添加亚分辨率辅助图形的规则菜单。再根据该规则菜单为整个目标图形添加亚分辨率辅助图形。然而，这样添加的亚分辨率辅助图形会存在图像重叠、图像间距离过近、图像间相互错位等问题。这些问题仍然会影响光刻分辨率。发明内容本发明提供一种根据规则添加SRAF的方法，可提高光刻分辨率。为达到上述目的，本发明采用如下技术方案：提供一种根据规则添加SRAF的方法，包括：获取目标图形，并确定投影区域；目标图形包括多个子目标图形；根据投影区域选择SRAF规则，并基于SRAF规则在投影区域中添加第一亚分辨率辅助图形。对第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理，以使得沿与子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的多个第一亚分辨率辅助图形重排至同一竖直线上。根据子目标图形的位置、子目标图形的线宽、子目标图形与待形成的第二亚分辨率辅助图形之间的第二预设距离、待形成的第二亚分辨率辅助图形的线宽、以及待形成的第二亚分辨率辅助图形与第一亚分辨率辅助图像之间的第三预设距离，确定生长区域；生长区域位于子目标图形的两端、且和与其对应的子目标图形邻接。去除第一亚分辨率辅助图形中位于生长区域的部分。根据子目标图形的位置、以及子目标图形的线宽，在生长区域内形成第二亚分辨率辅助图形；每个生长区域内设有一个第二亚分辨率辅助图形；每个第二亚分辨率辅助图形与子目标图形的一端对应，第二亚分辨率辅助图形和与其对应的子目标图形的一端正对设置，且其延伸方向和与其对应的子目标图形的一端的线宽方向平行；第二分辨率辅助图形和与其对应的子目标图形正对设置。可选的，在形成第二亚分辨率辅助图形之后，添加SRAF的方法还包括：对第一亚分辨率辅助图形中与生长区域邻接的部分进行冲突清理，以去除第一亚分辨率辅助图形中与生长区域邻接的部分，或者，以将第一亚分辨率辅助图形中与生长区域邻接的部分放大；其中，放大后的第一亚分辨率辅助图形与第二亚分辨率辅助图形和其他第一亚分辨率辅助图形之间的距离大于或等于第三预设距离。可选的，若多个第一亚分辨率辅助图形的线宽相同，则对第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理，以使得沿与子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的多个第一亚分辨率辅助图形重排至同一竖直线，包括：移动至少一个第一亚分辨率辅助图形的位置，以使得沿与子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的与子目标图形11的延伸方向垂直的方向多个第一亚分辨率辅助图形排布至同一竖直线上。可选的，沿子目标图形的延伸方向，生长区域的长度为第二预设距离、第二亚分辨率辅助图形的线宽、第三预设距离之和；和或，沿与子目标图形11的延伸方向垂直的方向子目标图形的线宽方向，生长区域的宽度为与该生长区域对应的第二亚分辨率辅助图形的长度与2倍的第三预设距离之和。可选的，第二亚分辨率辅助图形的长度为与其对应的子目标图形的线宽的0.8~2倍。可选的，子目标图形的线宽为32nm、38nm、45nm中的一种；和或，第一亚分辨率辅助图形的线宽和第二亚分辨率辅助图形的线宽为15~30nm。可选的，第二预设距离为40~120nm；和或，第三预设距离为15~30nm。本发明实施例提供一种根据规则添加SRAF的方法，先形成第一亚分辨率辅助图形，并对第一亚分辨率辅助图形进行冲突处理，以使得沿与子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的多个第一亚分辨率辅助图形重排至同一竖直线上；确定生长区域，并在生长区域内形成第二亚分辨率辅助图形，且第二亚分辨率辅助图形与子目标图形之间的距离为第二预设距离、与第一亚分辨率辅助图形之间的距离为第三预设距离。这样一来，任意的子目标图形、第一亚分辨率辅助图形、以及第二亚分辨率辅助图形之间的距离，均在预设范围内，进而可避免现有技术中的图像重叠、图像间距离过近、图像间相互错位等问题，不但简化了掩模图案的制备过程，还可提高光刻分辨率。附图说明为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本发明实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的流程示意图；图2为本发明实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图；图3为本发明实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图；图4为本发明实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图；图5为本发明实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图；图6为本发明实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图；图7为本发明实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图；图8为本发明实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图；图9为本发明实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图；图10为本发明实施例提供的一种根据规则添加SRAF的方法的过程示意图。附图标记：11-子目标图形；12-第一亚分辨率辅助图形；13-第二亚分辨率辅助图形；23-生长区域。具体实施方式下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。本发明实施例提供一种根据规则添加SRAF的方法，如图1所示，可通过如下步骤实现：S11、如图2-3所示，获取目标图形，并确定投影区域；目标图形包括多个子目标图形11。如图5所示，根据投影区域选择SRAF规则，并基于SRAF规则在投影区域中添加第一亚分辨率辅助图形12。此处，部分子目标图形11包括孤立图形；投影区域包括第一区域（图3中的21a~21c）和第二区域（图4中的22a~22c）；沿与子目标图形11的延伸方向垂直的方向，第一区域为相邻两个子目标图形11之间的区域；第二区域为沿与子目标图形11的延伸方向垂直的方向，与孤立图形邻接的空白区域。此外，任意一个子目标图形11可以沿一个方向延伸，例如，子目标图形11呈矩形；或者，一个子目标图形11也可以沿多个方向延伸，例如，子目标图形11呈L形。为方便说明，下文均以子目标图形呈矩形来说明。需要说明的是，第一，本领域的技术人员应该知道，对于任意一个子目标图形11，若沿与子目标图形11的延伸方向垂直的方向，在一定距离范围内（例如2μm以内），无与该子目标图形相邻的子目标图形11，则该子目标图形11为孤立图形。示例的，如图4中的子目标图形11a背离子目标图形11c一侧，无其他子目标图形，因此，子目标图形11a相对于子目标图形11b和子目标图形11c为孤立图形。由于子目标图形11a靠近子目标图形11c一侧，分别与子目标图形11b和子目标图形11c相邻，因此，与子目标图形11a对应的第二区域为22a。对于任意一个子目标图形11，若沿与子目标图形11的延伸方向垂直的方向，无与该子目标图形11的一部分相邻的子目标图形11，则该部分为孤立图形。示例的，如图4中的子目标图形11b背离子目标图形11a一侧、且不与子目标图形11c相邻的部分为孤立图形。由于子目标图形11b靠近子目标图形11c一侧，其中的一部分与子目标图形11c相邻，因此，与子目标图形11b中未与子目标图形11c相邻的部分对应的第二区域为22c。同时，还可用相同的方式确定第二区域还包括图3中的第二区域22b和第二区域22d，在此不再赘述。第二，沿与子目标图形11的延伸方向垂直的方向，与孤立图形邻接的空白区域可全部作为第二区域；或者，沿与子目标图形11的延伸方向垂直的方向，与孤立图形邻接的空白区域中的一部分作为第二区域。若沿与子目标图形11的延伸方向垂直的方向，与孤立图形邻接的空白区域中的一部分作为第二区域，则可选的，与任意一个孤立图形邻接的一个第二区域，其背离该孤立图形的边沿与该孤立图形之间的距离为1.3~2μm。示例的，与任意一个孤立图形邻接的一个第二区域，其背离该孤立图形的边沿与该孤立图形之间的距离为1.3μm、1.56μm、2μm。第三，不对多个子目标图形11的线宽进行限定，其可以适用于任意节点的芯片。示例的，若采用28节点的芯片，则每个子目标图形11的最小线宽为45nm。若采用7节点的芯片，则每个子目标图形11的最小线宽为32nm。若采用14节点的芯片，则每个子目标图形11的最小线宽为38nm。其中，每个供应商提供的同一节点下的子目标图形11的线宽不同，本发明实施例仅以最小线宽示例。第四，不对多个子目标图形11之间的位置关系进行限定，多个子目标图形的位置关系与用户需求有关，本发明实施例对此不做特殊限定。第五，可根据基于模型的方法，通过测试图形的SRAF结果，以及工程师的经验，选择合适的SRAF规则。第六，不对第一亚分辨率辅助图形12的线宽进行限定，具体的，第一亚分辨率辅助图形12的线宽与实际设计需求有关。示例的，第一亚分辨率辅助图形12的线宽为15~30nm。具体的，以子目标图形11的线宽为45nm、子目标图形11a与子目标图形11b之间的距离为200nm、子目标图形11b与子目标图形11c之间的距离为120nm、子目标图形11a与子目标图形11c之间的距离为320nm、第一亚分辨率辅助图形12的线宽为30nm为例。在子目标图形11a与子目标图形11b之间正对的区域形成一个第一亚分辨率辅助图形12，该第一亚分辨率辅助图形12与子目标图形11a和子目标图形11b之间的距离均为85nm。在子目标图形11a与子目标图形11c之间正对的区域形成两个第一亚分辨率辅助图形12。其中，两个第一亚分辨率辅助图形12中靠近子目标图形11a的第一亚分辨率辅助图形12与子目标图形11a之间的距离为80nm；两个第一亚分辨率辅助图形12中靠近子目标图形11c的第一亚分辨率辅助图形12与子目标图形11c之间的距离为80nm；两个第一亚分辨率辅助图形12之间的距离为100nm。在与子目标图形11a对应的第二区域22a形成n个第一亚分辨率辅助图形12，子目标图形11a背离目标图形11c的边沿与n个第一亚分辨率辅助图形12之间的距离分别为90nm、135nm…。在与子目标图形11b对应的第二区域22b形成n个第一亚分辨率辅助图形12，子目标图形11b背离目标图形11c的边沿与n个第一亚分辨率辅助图形12之间的距离分别为90nm、135nm…。在与子目标图形11b对应的第二区域22c形成n个第一亚分辨率辅助图形12，子目标图形11b背离目标图形11a的边沿与n个第一亚分辨率辅助图形12之间的距离分别为90nm、135nm…。在与子目标图形11c对应的第二区域22d形成n个第一亚分辨率辅助图形12，子目标图形11c背离目标图形11a的边沿与n个第一亚分辨率辅助图形12之间的距离分别为90nm、135nm…。S12、如图6所示，对第一亚分辨率辅助图形12进行冲突清理，以使得沿与子目标图形11的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的多个第一亚分辨率辅助图形12重排至同一竖直线上。示例的，如图6所示，以第二区域22b中与子目标图形11b间隔90nm的第一亚分辨率辅助图形12、位于子目标图形11a与子目标图形11b之间的第一亚分辨率辅助图形12、以及位于子目标图形11a与子目标图形11c之间且与子目标图形11a间隔80nm的第一亚分辨率辅助图形12为例，位于子目标图形11a与子目标图形11b之间的第一亚分辨率辅助图形12，相较于其他两个第一亚分辨率辅助图形12向子目标图形11a指向子目标图形11b的方向偏5nm。因此，本发明实施例可以将位于子目标图形11a与子目标图形11b之间的第一亚分辨率辅助图形12，沿子目标图形11a指向子目标图形11a的方向移动5nm，以使得三者处于同一竖直线上，且该竖直线与子目标图形11的延伸方向平行。当然，还可以采用其他方式使上述三个第一亚分辨率辅助图形12处于同一竖直线上，只要第一亚分辨率辅助图形12与目标图形11之间的距离、以及移动后的第一亚分辨率辅助图形12与其他第一亚分辨率辅助图形12之间的距离符合设计要求即可，本发明实施例对此不进行限定。如图6所示，以第二区域22c中与子目标图形11b间隔135nm的第一亚分辨率辅助图形12、第二区域22c中与子目标图形11c间隔90nm的第一亚分辨率辅助图形12为例，二者之间的间距接近15nm。因此，可取二者之间间距的平均值，并同时移动两个第一亚分辨率辅助图形12，以使得二者处于同一竖直线上，且该竖直线与子目标图形11的延伸方向平行。当然，还可以采用其他方式使上述两个第一亚分辨率辅助图形12处于同一竖直线上，只要第一亚分辨率辅助图形12与目标图形11之间的距离、以及移动后的第一亚分辨率辅助图形12与其他第一亚分辨率辅助图形12之间的距离符合设计要求即可，本发明实施例对此不进行限定。对于上述，移动后的多个第一亚分辨率辅助图形12位于同一竖直线上，是指：移动后的多个第一亚分辨率辅助图形12中与子目标图形11的延伸方向平行的中轴线位于同一竖直线上。由于上述所有的第一亚分辨率辅助图形12的线宽均为30nm，因此，移动后的第一亚分辨率辅助图形12中相接触的两端完全重合。需要说明的是，步骤S12是将违反掩模制造规则的第一亚分辨率辅助图形12进行平移、重组等，以使其满足掩模制造规则。基于此，示例的，可以对多个延伸方向相同、且沿垂直于自身的延伸方向的方向错开15nm以内的多个第一亚分辨率辅助图形12进行冲突清理，以使得上述多个第一亚分辨率辅助图形12重排至同一竖直线上。即，第一预设距离为15nm。S13、如图7和图9所示，根据子目标图形11的位置、子目标图形11的线宽、子目标图形11与待形成的第二亚分辨率辅助图形13之间的第二预设距离、待形成的第二亚分辨率辅助图形13的线宽、以及待形成的第二亚分辨率辅助图形13与第一亚分辨率辅助图像12之间的第三预设距离，确定生长区域23；生长区域23位于子目标图形11的两端、且和与其对应的子目标图形邻接。需要说明的是，第一，不对第二预设距离和第三预设距离的具体范围进行限定，只要第二预设距离和第三预设距离符合设计要求即可。示例的，第二预设距离为40~120nm，第三预设距离为15~30nm。第二，不对第二亚分辨率辅助图形13的线宽进行限定，具体的，第二亚分辨率辅助图形13的线宽与实际设计需求有关。示例的，第二亚分辨率辅助图形13的线宽为15~30nm。具体的，沿子目标图形11的延伸方向，生长区域23的长度为第二预设距离、第二亚分辨率辅助图形13的线宽、第三预设距离之和。示例的，以子目标图形11的线宽为45nm、第二预设距离为85nm、第三预设距离为30nm、待形成的第二亚分辨率辅助图形13的线宽为30nm为例，沿子目标图形11的延伸方向，生长区域的长度为85+30+30=145nm。具体的，沿与子目标图形11的延伸方向垂直的方向，生长区域23的宽度为与该生长区域23对应的第二亚分辨率辅助图形13的长度与2倍的第三预设距离之和。其中，待形成的第二亚分辨率辅助图形13的长度为与其对应的子目标图形11的线宽的0.8~2倍。示例的，以子目标图形11的线宽为45nm、第二亚分辨率辅助图形13的长度为与其对应的子目标图形11的线宽的1.2倍、第三预设距离为30nm为例，沿子目标图形11的延伸方向，第二亚分辨率辅助图形13的长度为45*1.2=54nm；进一步的，沿与子目标图形11的延伸方向垂直的方向，生长区域的宽度为54+30*2=114nm。S14、如图8所示，去除第一亚分辨率辅助图形12中位于生长区域23的部分。S15、如图9所示，根据子目标图形11的位置、以及子目标图形11的线宽，在生长区域23内形成第二亚分辨率辅助图形13；每个生长区域内设有一个第二亚分辨率辅助图形；每个第二亚分辨率辅助图形与子目标图形的一端对应，第二亚分辨率辅助图形和与其对应的子目标图形的一端正对设置，且其延伸方向和与其对应的子目标图形的一端的线宽方向平行；第二分辨率辅助图形和与其对应的子目标图形正对设置。需要说明的是，第一，每个子目标图形11的两端分别具有一个生长区域23，且子目标图形11与生长区域一一对应。因此，对于任意一个子目标图形11，均有两个第二亚分辨率辅助图形13与其对应。第二，第二分辨率辅助图形13和与其对应的子目标图形11正对设置，即，第二分辨率辅助图形13的中心和与其对应的子目标图形11的中心在同一竖直线上，该竖直线与子目标图形11的的延伸方向平行。在此基础上，第二亚分辨率辅助图形13的延伸方向和与其对应的子目标图形11的延伸方向垂直。当然，若子目标图形11不为矩形，则第二亚分辨率辅助图形13和与其对应的子目标图形11的一端正对设置，且该第二亚分辨率辅助图形13的延伸方向和与其对应的子目标图形11的一端的线宽方向平行。本发明实施例提供一种根据规则添加SRAF的方法，先形成第一亚分辨率辅助图形12，并对第一亚分辨率辅助图形进行冲突处理，以使得沿与子目标图形11的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的多个第一亚分辨率辅助图形12重排至同一竖直线上；确定生长区域23，并在生长区域23内形成第二亚分辨率辅助图形13，且第二亚分辨率辅助图形13与子目标图形11之间的距离为第二预设距离、与第一亚分辨率辅助图形12之间的距离为第三预设距离。这样一来，任意的子目标图形11、第一亚分辨率辅助图形12、以及第二亚分辨率辅助图形13之间的距离，均在预设范围内，进而可避免现有技术中的图像重叠、图像间距离过近、图像间相互错位等问题，不但简化了掩模图案的制备过程，还可提高光刻分辨率。可选的，在形成第二亚分辨率辅助图形13之后，添加SRAF的方法还包括：如图10所示，对第一亚分辨率辅助图形12中与生长区域23邻接的部分进行冲突清理，以去除第一亚分辨率辅助图形12中与生长区域23邻接的部分，或者，以将第一亚分辨率辅助图形12中与生长区域23邻接的部分放大；其中，放大后的第一亚分辨率辅助图形12与第二亚分辨率辅助图形13和其他第一亚分辨率辅助图形12之间的距离大于或等于第三预设距离。即，在对第一亚分辨率辅助图形12中与生长区域23邻接的部分进行放大的过程中，应保证放大后的第一亚分辨率辅助图形12与第二亚分辨率辅助图形13和其他第一亚分辨率辅助图形12之间的距离大于或等于第三预设距离。需要说明的是，该过程是对违反掩模制造规则的第一亚分辨率辅助图形进行放大或缩小，以使其满足掩模制造规则。本发明实施例中，由于将第一亚分辨率辅助图形12中位于生长区域23内的部分去除掉了，因此，第一亚分辨率辅助图形12中与生长区域23邻接的部分的尺寸非常小，目前的掩模设备难以制备出尺寸非常小的掩模图案。因此，可将尺寸非常小的第一亚分辨率辅助图形12去除掉，或将尺寸非常小的第一亚分辨率辅助图形12放大。以上，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以权利要求的保护范围为准。

权利要求：1.一种根据规则添加SRAF的方法，其特征在于，包括：获取目标图形，并确定投影区域；所述目标图形包括多个子目标图形；根据所述投影区域选择SRAF规则，并基于所述SRAF规则在所述投影区域中添加第一亚分辨率辅助图形；对所述第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理，以使得沿与所述子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的多个所述第一亚分辨率辅助图形重排至同一竖直线上；根据所述子目标图形的位置、所述子目标图形的线宽、所述子目标图形与待形成的第二亚分辨率辅助图形之间的第二预设距离、待形成的所述第二亚分辨率辅助图形的线宽、以及待形成的所述第二亚分辨率辅助图形与所述第一亚分辨率辅助图像之间的第三预设距离，确定生长区域；所述生长区域位于所述子目标图形的两端、且和与其对应的所述子目标图形邻接；去除所述第一亚分辨率辅助图形中位于所述生长区域的部分；根据所述子目标图形的位置、以及所述子目标图形的线宽，在所述生长区域内形成所述第二亚分辨率辅助图形；每个所述生长区域内设有一个所述第二亚分辨率辅助图形；每个所述第二亚分辨率辅助图形与所述子目标图形的一端对应，所述第二亚分辨率辅助图形和与其对应的所述子目标图形的一端正对设置，且其延伸方向和与其对应的所述子目标图形的一端的线宽方向平行；所述第二分辨率辅助图形和与其对应的所述子目标图形正对设置。2.根据权利要求1所述的根据规则添加SRAF的方法，其特征在于，在形成所述第二亚分辨率辅助图形之后，所述添加SRAF的方法还包括：对所述第一亚分辨率辅助图形中与所述生长区域邻接的部分进行冲突清理，以去除所述第一亚分辨率辅助图形中与所述生长区域邻接的部分，或者，以将所述第一亚分辨率辅助图形中与所述生长区域邻接的部分放大；其中，放大后的所述第一亚分辨率辅助图形与所述第二亚分辨率辅助图形和其他所述第一亚分辨率辅助图形之间的距离大于或等于所述第三预设距离。3.根据权利要求1或2所述的根据规则添加SRAF的方法，其特征在于，若多个所述第一亚分辨率辅助图形的线宽相同，则对所述第一亚分辨率辅助图形进行冲突清理，以使得沿与所述子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的多个所述第一亚分辨率辅助图形重排至同一竖直线，包括：移动至少一个所述第一亚分辨率辅助图形的位置，以使得沿与所述子目标图形的延伸方向垂直的方向错开第一预设距离以内的与子目标图形的延伸方向垂直的方向多个所述第一亚分辨率辅助图形排布至同一竖直线上。4.根据权利要求1或2所述的根据规则添加SRAF的方法，其特征在于，沿所述子目标图形的延伸方向，所述生长区域的长度为所述第二预设距离、所述第二亚分辨率辅助图形的线宽、所述第三预设距离之和；和或，沿所述与子目标图形的延伸方向垂直的方向所述子目标图形的线宽方向，所述生长区域的宽度为与该生长区域对应的所述第二亚分辨率辅助图形的长度与2倍的所述第三预设距离之和。5.根据权利要求4所述的根据规则添加SRAF的方法，其特征在于，所述第二亚分辨率辅助图形的长度为与其对应的所述子目标图形的线宽的0.8~2倍。6.根据权利要求1或2所述的根据规则添加SRAF的方法，其特征在于，所述子目标图形的线宽为32nm、38nm、45nm中的一种；和或，所述第一亚分辨率辅助图形的线宽和所述第二亚分辨率辅助图形的线宽为15~30nm。7.根据权利要求1或2所述的根据规则添加SRAF的方法，其特征在于，所述第二预设距离为40~120nm；和或，所述第三预设距离为15~30nm。

百度查询： 中国科学院微电子研究所 一种根据规则添加SRAF的方法

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