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申请/专利权人：无锡华润上华科技有限公司
申请日：2021-08-02
公开（公告）日：2023-04-04
公开（公告）号：CN115903367A
主分类号：G03F1/36
分类号：G03F1/36;G03F1/00
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2023.04.21#实质审查的生效;2023.04.04#公开
摘要：本发明提供一种添加SRAF的方法、掩模版及制造方法，通过将第一目标图形向外侧延伸，获取第一目标放大图形，并选取掩模版图与第一目标放大图形相交叠的部分作为第二目标图形，且基于新的第二目标图形添加SRAF，从而在添加SRAF时，可扩大第一目标图形的有效范围，以将第一目标图形的周边环境考虑进去，从而可有效避免添加的SRAF与掩模版图出现图形重叠、图像间距离过近、图像间相互错位等问题，不但简化了掩模版的制备过程，还提高了光刻分辨率，增大了工艺窗口。
主权项：1.一种添加SRAF的方法，其特征在于，包括以下步骤：获取掩模版图中的第一目标图形；自所述第一目标图形边缘向外侧延伸预设距离，获取第一目标放大图形；选取所述掩模版图与所述第一目标放大图形相交叠的部分，获取第二目标图形；添加所述第二目标图形的SRAF。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 无锡华润上华科技有限公司 添加SRAF的方法、掩模版及制造方法
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皖公网安备 34010402703815号