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申请/专利权人：株式会社荏原制作所
申请日：2023-12-26
公开（公告）日：2024-06-28
公开（公告）号：CN118254100A
主分类号：B24B37/10
分类号：B24B37/10;B24B37/005;B24B37/34;B24B49/12
优先权：["20221227 JP 2022-209808"]
专利状态码：在审-公开
法律状态：2024.06.28#公开
摘要：本发明提供一种基板研磨装置。在光学式表面监视系统中，除去或者缓和由基板与研磨台之间的相对速度的差异导致的测定精度的影响。基板研磨装置具有：研磨台；用于使所述研磨台旋转的电机；构成为保持基板的基板保持头；光源；以及配置于研磨台的内部的光学头。光学头具备投光口和受光口，该投光口被配置为将来自所述光源的光朝向保持于基板保持头的基板投射，该受光口被配置为接受从保持于所述基板保持头的基板反射的光。基板研磨装置还具有：用于检测由所述受光口接受到的光的光检测器；用于控制光被取入所述光检测器的曝光时间的快门；以及用于基于基板的研磨条件来控制所述快门的动作以变更所述曝光时间的控制装置。
主权项：1.一种基板研磨装置，其特征在于，具有：研磨台；电机，该电机用于使所述研磨台旋转；基板保持头，该基板保持头构成为保持基板；光源；光学头，该光学头配置于研磨台的内部，具备投光口和受光口，该投光口被配置为将来自所述光源的光朝向保持于基板保持头的基板投射，该受光口被配置为接受从保持于所述基板保持头的基板反射的光；光检测器，该光检测器用于检测由所述受光口接受到的光；快门，该快门用于控制光被取入所述光检测器的曝光时间；以及控制装置，该控制装置用于基于基板的研磨条件来控制所述快门的动作以变更所述曝光时间。
全文数据：
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